[發明專利]一種投影系統及投影儀在審
| 申請號： | 202110480914.2 | 申請日： | 2021-04-30 |
| 公開（公告）號： | CN113156753A | 公開（公告）日： | 2021-07-23 |
| 發明（設計）人： | 李金華;楊軍超;吳麗萍;徐殿維 | 申請（專利權）人： | 博眾精工科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03B21/20 | 分類號： | G03B21/20;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215200 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 投影 系統 投影儀 | ||
1.一種投影系統，其特征在于，包括出光模塊、勻光模塊、光調制模塊、數字微鏡陣列和投影成像模塊；
所述出光模塊用于出射所述投影系統所需的發光光束；
所述勻光模塊包括勻光片，所述勻光片位于所述發光光束的傳播路徑上，用于對所述發光光束進行勻光處理，形成勻光光束；
所述光調制模塊包括第一調制單元，所述第一調制單元位于所述勻光光束的傳播路徑上，用于調整所述勻光光束入射至所述數字微鏡陣列；
所述數字微鏡陣列用于反射所述勻光光束形成反射光束，所述反射光束攜帶編碼圖案；
所述光調制模塊還包括第二調制單元，所述第二調制單元位于所述反射光束的傳播路徑上，用于反射至少部分所述反射光束至所述投影成像模塊；
所述投影成像模塊用于將所述反射光束投影至待投影位置。
2.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述勻光片包括噴砂玻璃和/或磨砂玻璃。
3.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影系統還包括準直模塊，所述準直模塊位于所述發光光束的傳播路徑上，用于對所述發光光束進行準直。
4.根據權利要求3所述的投影系統，其特征在于，所述準直模塊包括彎月透鏡和非球面透鏡；
所述彎月透鏡位于所述發光光束的傳播路徑上，用于對所述發光光束進行會聚，形成會聚光束；
所述非球面透鏡位于所述會聚光束的傳播路徑上，用于對所述會聚光束進行準直。
5.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述出光模塊包括發光二極管、鹵素燈、激光光源以及超高壓汞燈的至少一種。
6.根據權利要求5所述的投影系統，其特征在于，所述出光模塊包括藍光發光二極管。
7.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述第一調制單元包括楔形棱鏡。
8.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述第二調制單元包括直角棱鏡，所述直角棱鏡用于反射所述反射光束中入射角大于或者等于全反射角的光束，透射所述反射光束中入射角小于全反射角的光束。
9.根據權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影成像模塊包括若干個光學透鏡。
10.一種投影儀，其特征在于，包括權利要求1-9任一項所述的投影系統。
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