[發(fā)明專利]聚酰亞胺基膜及包括該聚酰亞胺基膜的柔性顯示面板

在審

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• 申請日: 2021-04-30
• 公開（公告）號: CN113604042A
• 公開（公告）日: 2021-11-05
• 發(fā)明（設計）人: 樸盡秀;金惠璃;樸真炯;黃裕錫
• 申請（專利權）人: SK新技術株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08J5/18
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 安玉;蔣洪之

1.一種聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據ASTMD882的模量為5GPa以上，在60℃、90％RH的高溫高濕條件下保持500小時后的模量的變化率為10％以下。

2.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜在60℃、90％RH的高溫高濕條件下保持500小時后的面內相位差的變化率為5％以下。

3.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的在550nm的波長下測量的面內相位差為200nm以下，厚度方向的相位差為6000nm以下。

4.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據ASTM D882的斷裂伸長率為8％以上，根據ASTM D1746在388nm下測量的透光率為5％以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為87％以上，霧度為2.0％以下，黃色指數為5.0以下，并且b*值為2.0以下。

5.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜由聚酰胺酰亞胺基樹脂形成。

6.根據權利要求5所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的單元、衍生自芳香族二酐的單元和衍生自芳香族二酰氯的單元。

7.根據權利要求6所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜還包含衍生自脂環(huán)族二酐的單元。

8.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的厚度為30-100μm。

9.一種窗覆蓋膜，其包括權利要求1至8中任一項所述的聚酰亞胺基膜。

10.根據權利要求9所述的窗覆蓋膜，其中，在所述聚酰亞胺基膜的一面具有選自硬涂層、防靜電層、防指紋層、防污層、防刮擦層、低折射層、防反射層和沖擊吸收層中的任一種以上的涂層。

11.一種柔性顯示面板，其包括權利要求1至8中任一項所述的聚酰亞胺基膜。