[發(fā)明專利]感放射線性組合物、硬化膜的制造方法、半導(dǎo)體元件及顯示元件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110477368.7
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113589647A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 本田晃久;中西拓也;倉田亮平;吉田智香;三村時生;八代隆郎
• 申請（專利權(quán)）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;H01L23/29
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊文娟;臧建明

1.一種感放射線性組合物，含有：

包含具有氧雜環(huán)丙基的第一結(jié)構(gòu)單元與具有羧基的第二結(jié)構(gòu)單元的聚合物成分；

感光劑；

選自由胺系化合物、咪唑系化合物及異氰酸酯系化合物所組成的群組中的至少一種化合物；以及

溶劑；并且

相對于構(gòu)成所述聚合物成分的全部結(jié)構(gòu)單元，所述第一結(jié)構(gòu)單元的含有比例為超過20質(zhì)量％且65質(zhì)量％以下，

相對于構(gòu)成所述聚合物成分的全部結(jié)構(gòu)單元，所述第二結(jié)構(gòu)單元的含有比例為超過5質(zhì)量％且25質(zhì)量％以下，

所述溶劑包含相對于所述溶劑的總量而為20質(zhì)量％以上的漢森溶解度參數(shù)的氫鍵項dH為10.0以上的高dH溶媒。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物，其中，所述溶劑包含相對于所述溶劑的總量而大于50質(zhì)量％的沸點為160℃以下的低沸點溶媒。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其中，所述高dH溶媒的沸點為200℃以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其中，所述高dH溶媒為選自由乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁基醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單異丙醚、己二醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、丁醇、3-甲氧基-1-丁醇、2-甲基丁醇、3-甲基丁醇、2-乙基丁醇、異丁醇、戊醇、2-甲基戊醇、環(huán)己醇、二丙酮醇、芐醇及糠醇所組成的群組中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其中，所述胺系化合物為硅烷偶合劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其中，所述異氰酸酯系化合物為硅烷偶合劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其中，所述聚合物成分還包含具有氧雜環(huán)丁基的結(jié)構(gòu)單元。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感放射線性組合物，其還含有具有酚性羥基的化合物[D]。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的感放射線性組合物，其中，相對于所述聚合物成分100質(zhì)量份，所述化合物[D]的含有比例為1質(zhì)量份以上。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的感放射線性組合物，其中，相對于所述感光劑與所述化合物[D]的總量，所述化合物[D]的含有比例為1質(zhì)量％～60質(zhì)量％。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的感放射線性組合物，其中，所述化合物[D]的分子量為700以下。