[發(fā)明專利]制漿設(shè)備控制方法和制漿設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110477005.3
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113180503B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王旭寧;張磊
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州九陽小家電有限公司
• 主分類號: A47J43/07
• 分類號: A47J43/07
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種制漿設(shè)備控制方法，所述制漿設(shè)備包括可拆卸組件，其特征在于，所述制漿設(shè)備具有多個工作階段，所述控制方法包括：

所述制漿設(shè)備進入無需對所述可拆卸組件進行操作的第一工作階段；

在可拆卸組件未安裝到位時，忽略可拆卸組件未安裝到位的異常，繼續(xù)完成所述第一工作階段；

在所述可拆卸組件安裝到位時，所述制漿設(shè)備進入需要對所述可拆卸組件進行操作的第二工作階段，其中，所述第一工作階在所述第二工作階段之前。

2.如權(quán)利要求1所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，在完成所述第一工作階段后，所述可拆卸組件未安裝到位時，所述控制方法還包括：等待工作階段。

3.如權(quán)利要求1所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述第二工作階段為排液階段；在可拆卸組件未安裝到位時，忽略可拆卸組件未安裝到位的異常，繼續(xù)完成所述第一工作階段；在所述可拆卸組件安裝到位時，所述制漿設(shè)備進入需要對所述可拆卸組件進行操作的第二工作階段包括：

當(dāng)所述可拆卸組件為排液接收裝置時，在進入所述排液階段之前，控制所述制漿設(shè)備按照所述排液階段之前的預(yù)設(shè)的工作階段執(zhí)行順序繼續(xù)工作，直至進入所述排液階段時，控制所述制漿設(shè)備進入等待排液階段。

4.如權(quán)利要求3所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述排液階段包括排漿階段，所述排液接收裝置包括接漿杯；

在所述在進入所述排液階段之前還包括：

在完成所述排漿階段之前的所有的預(yù)設(shè)工作階段時，判斷所述接漿杯是否安裝到位；

當(dāng)所述接漿杯未安裝到位，控制所述制漿設(shè)備進入保溫狀態(tài)，對漿液進行保溫。

5.如權(quán)利要求4所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述控制所述制漿設(shè)備進入保溫狀態(tài)之后包括：

按照預(yù)設(shè)時間間隔和/或按照所述漿液的沉淀度控制所述制漿設(shè)備的攪拌裝置以第一預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)速進行預(yù)設(shè)時長的攪拌；

和/或

獲取所述漿液的第一溫度值；

在所述第一溫度值小于第一目標溫度時，控制所述制漿設(shè)備的加熱裝置將所述漿液加熱至所述第一目標溫度。

6.如權(quán)利要求3所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述排液階段包括排清洗廢水階段，所述排液接收裝置包括清洗廢水接收裝置；

在所述在進入所述排液階段之前還包括：

在完成所述排清洗廢水階段之前的預(yù)設(shè)工作階段時，判斷所述清洗廢水接收裝置是否安裝到位；

當(dāng)所述清洗廢水接收裝置未安裝到位，控制所述制漿設(shè)備進入清洗保持階段。

7.如權(quán)利要求6所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述清洗保持階段包括以下一種或多種動作的組合：攪拌件攪動清洗水；對清洗水加熱保溫；再次注入清洗水。

8.如權(quán)利要求1所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述第二工作階段為制漿加水階段和/或清洗加水階段；

在可拆卸組件未安裝到位時，忽略可拆卸組件未安裝到位的異常，繼續(xù)完成所述第一工作階段；在所述可拆卸組件安裝到位時，所述制漿設(shè)備進入需要對所述可拆卸組件進行操作的第二工作階段包括：

當(dāng)所述可拆卸組件為水箱時，在進入所述制漿加水階段和/或所述清洗加水階段之前，控制所述制漿設(shè)備按照所述制漿加水階段和/或所述清洗加水階段之前的預(yù)設(shè)的工作階段執(zhí)行順序繼續(xù)工作，直至進入所述制漿加水階段和/或所述清洗加水階段時，控制所述制漿設(shè)備停止制漿或停止清洗。

9.如權(quán)利要求2所述的制漿設(shè)備控制方法，其特征在于，所述等待工作階段包括：控制制漿設(shè)備停機直至所述可拆卸組件安裝到位；或控制制漿設(shè)備按第一工作階段繼續(xù)工作直至所述可拆卸組件安裝到位或超出預(yù)設(shè)時間。

10.一種制漿設(shè)備，所述制漿設(shè)備包括機體、可拆卸組件，所述機體包括加工腔和用于攪拌物料的攪拌件，其特征在于，所述制漿設(shè)備還包括處理器、存儲器和存儲在所述存儲器上的執(zhí)行指令，所述執(zhí)行指令設(shè)置成在被所述處理器執(zhí)行時能夠使所述制漿設(shè)備執(zhí)行權(quán)利要求1至9中任一項所述的制漿設(shè)備控制方法。