[發(fā)明專利]菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具、菲涅爾膜片制備方法及正投影屏幕

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110476772.2
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113183447B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周輝
• 申請（專利權(quán)）人: 青島海信激光顯示股份有限公司
• 主分類號: B29C59/04
• 分類號: B29C59/04;B29C59/02;B32B17/06;B32B27/06;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B7/023;G03B21/602;B29L7/00
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具，其特征在于，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具呈長條狀，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具的一側(cè)設(shè)有多個(gè)加工齒，各所述加工齒沿所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具的長度方向排布；

所述加工齒在齒長方向的一側(cè)具有第一斜面，所述加工齒的齒長方向垂直于所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具的長度方向；所述第一斜面延伸至所述加工齒的齒頂處，且與所述加工齒的齒頂?shù)膴A角為鈍角。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具，其特征在于，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具包括模具本體，所述加工齒設(shè)于所述模具本體上；所述模具本體上設(shè)有第二斜面，所述第二斜面與所述第一斜面相接且共面。

3.一種使用如權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具制備菲涅爾膜片的方法，其特征在于，所述方法包括：

在基底層上涂布光學(xué)樹脂，并進(jìn)行半固化處理，形成待加工層；

利用所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具上的加工齒，在所述待加工層上加工出菲涅爾微結(jié)構(gòu)；

對所述光學(xué)樹脂進(jìn)行固化處理。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具使用時(shí)滑動推進(jìn)，形成所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具滑動推進(jìn)時(shí)，以設(shè)定軸線為旋轉(zhuǎn)中心線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)推進(jìn)，形成同軸設(shè)置的菲涅爾微結(jié)構(gòu)，所述設(shè)定軸線垂直于所述基底層，所述菲涅爾微結(jié)構(gòu)模具的長度沿旋轉(zhuǎn)路徑的徑向延伸。

6.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述待加工層的厚度范圍為10μm-100μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述基底層的透光率為25％-90％。

8.一種正投影屏幕，其特征在于，包括順次層疊排布的表面層、使用如權(quán)利要求3-7中任一項(xiàng)所述的方法制備的菲涅爾膜片及反光層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的正投影屏幕，其特征在于，所述表面層包括增透膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的正投影屏幕，其特征在于，所述增透膜設(shè)有多層，靠近所述菲涅爾膜片的所述增透膜的折射率大于遠(yuǎn)離所述菲涅爾膜片的所述增透膜的折射率。

11.根據(jù)權(quán)利要求8-10中任一項(xiàng)所述的正投影屏幕，其特征在于，所述基底層包括第一基底層和第二基底層，所述第一基底層設(shè)于所述第二基底層遠(yuǎn)離所述反光層的一側(cè)；所述第二基底層中分布有光學(xué)散射微粒。