[發(fā)明專利]識(shí)別寸、關(guān)、尺的方法、終端、系統(tǒng)、介質(zhì)及計(jì)算機(jī)設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110475595.6 | 申請日: | 2021-04-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113171062A | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 耿興光;張俊;姚飛;張劭龍;張以濤;張海英 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號(hào): | A61B5/02 | 分類號(hào): | A61B5/02;A61B5/00;G06K9/00;G06K9/46;G06T5/10;G06T7/13;G06T7/60 |
| 代理公司: | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人: | 房德權(quán) |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 識(shí)別 方法 終端 系統(tǒng) 介質(zhì) 計(jì)算機(jī) 設(shè)備 | ||
1.一種識(shí)別寸、關(guān)、尺的方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取人體手腕的熱成像圖像,基于所述熱成像圖像確定手腕橈骨莖突對應(yīng)的第一標(biāo)記點(diǎn);所述第一標(biāo)記點(diǎn)為關(guān)位的橫坐標(biāo);
基于圖像邊緣識(shí)別算法提取所述橈骨莖突和手掌之間、以及手腕兩側(cè)的邊緣輪廓信息;基于所述邊緣輪廓信息確定腕橫紋走勢直線;
獲取所述第一標(biāo)記點(diǎn)與所述腕橫紋之間的垂直距離,利用中醫(yī)同身寸原理,基于所述垂直距離及所述第一標(biāo)記點(diǎn)確定寸位橫坐標(biāo)及尺位橫坐標(biāo);
從所述熱成像圖像中提取橈動(dòng)脈圖像,將所述橈動(dòng)脈圖像擬合為直線函數(shù);
基于所述直線函數(shù)與所述關(guān)位的橫坐標(biāo)確定所述關(guān)位的縱坐標(biāo),基于所述直線函數(shù)與所述尺位的橫坐標(biāo)確定所述尺位的縱坐標(biāo),基于所述直線函數(shù)與所述寸位的橫坐標(biāo)確定所述寸位的縱坐標(biāo)。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述邊緣輪廓信息確定腕橫紋走勢直線,包括:
對所述邊緣輪廓信息進(jìn)行插值處理,對插值處理后的所述邊緣輪廓信息進(jìn)行平滑濾波,獲得濾波后的邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集;
利用連續(xù)小波變換函數(shù)對邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集中的像素進(jìn)行連續(xù)小波分解,獲得對應(yīng)的小波分解值;
獲取各所述小波變換值沿采樣點(diǎn)處的模極大值點(diǎn),將大于預(yù)設(shè)閾值的模極大值點(diǎn)作為腕橫紋標(biāo)志點(diǎn);所述腕橫紋標(biāo)志點(diǎn)包括:第一標(biāo)志點(diǎn)及第二標(biāo)志點(diǎn);
基于所述腕橫紋標(biāo)志點(diǎn)確定腕橫紋走勢直線;所述腕橫紋走勢直線為所述第一標(biāo)志點(diǎn)及所述第二標(biāo)志點(diǎn)之間的連線。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述垂直距離及所述第一標(biāo)記點(diǎn)確定寸位橫坐標(biāo),包括:
確定所述腕橫紋走勢直線的垂線;
以所述第一標(biāo)記點(diǎn)為初始點(diǎn),基于同身寸原理在所述垂線中確定與所述第一標(biāo)記點(diǎn)的距離為g*L的第二參考位置;所述第二參考位置靠近所述腕橫紋走勢直線;所述L為所述垂直距離,所述g為常量,0g≤1;所述*為乘法運(yùn)算符;
將所述第二參考位置確定為第二標(biāo)記點(diǎn);所述第二標(biāo)記點(diǎn)為所述寸位的橫坐標(biāo)。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述垂直距離及所述第一標(biāo)記點(diǎn)確定尺位橫坐標(biāo),包括:
確定所述腕橫紋走勢直線的垂線;
以所述第一標(biāo)記點(diǎn)為初始點(diǎn),基于同身寸原理在所述垂線中確定與所述第一標(biāo)記點(diǎn)的距離為m*L的第三參考位置;所述第三參考位置遠(yuǎn)離所述腕橫紋走勢直線,所述m為常量,0m≤1;
將所述第三參考位置確定為第三標(biāo)記點(diǎn);所述第三標(biāo)記點(diǎn)為所述尺位的橫坐標(biāo)。
5.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用連續(xù)小波變換函數(shù)對邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集中的像素進(jìn)行連續(xù)小波分解,獲得對應(yīng)的小波分解值,包括:
利用連續(xù)小波分解函數(shù)對邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集中的像素進(jìn)行連續(xù)小波分解,獲得對應(yīng)的小波變換值WSf(x);其中,所述S為小波函數(shù)的尺度變換因子,所述x為所述邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集中的像素點(diǎn)的位置,所述f為f(x)的簡化表示,所述f(x)為所述邊緣輪廓像素?cái)?shù)據(jù)集,所述θS為θ(x)在尺度變換因子S下的伸縮變換結(jié)果,所述θ(x)為平滑函數(shù)。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述從所述熱成像圖像中提取橈動(dòng)脈圖像,將所述橈動(dòng)脈圖像擬合為直線函數(shù),包括:
將所述熱成像圖像區(qū)域中的所有像素點(diǎn)劃分為n個(gè)像素區(qū)域;
針對任一像素區(qū)域,確定每個(gè)所述像素區(qū)域中各像素的實(shí)際均值和實(shí)際方差;
將每個(gè)所述像素區(qū)域中的實(shí)際均值和參考均值進(jìn)行比較,將每個(gè)所述像素區(qū)域中的實(shí)際方差和參考方差進(jìn)行比較,將符合參考均值且符合所述參考方差的像素進(jìn)行二值化處理,獲得橈動(dòng)脈圖像;
對所述橈動(dòng)脈圖像中所有像素的縱坐標(biāo)進(jìn)行均值化處理,獲得值橈動(dòng)脈圖像曲線;
對所述橈動(dòng)脈圖像曲線進(jìn)行直線擬合,獲得所述直線函數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院微電子研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院微電子研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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