[發明專利]一種紫外探測器及其制備方法

有效

• 申請號: 202110474859.6
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113066876B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發明（設計）人: 劉可為;陳星;申德振
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: H01L31/032
• 分類號: H01L31/032;H01L31/18;H01L27/146
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 藏斌

1.一種紫外探測器的制備方法，包括以下步驟：

a)在襯底表面設置像素點陣結構和讀出電路，所述像素點陣結構由多個像素單元構成；

b)將設置有像素點陣結構和讀出電路的襯底置于寬禁帶氧化物膜層生長設備中；用掩模擋住讀出電路，在100～350℃條件下進行寬禁帶氧化物膜層的生長，所述寬禁帶氧化物膜層的成分為氧化鎵、鎵酸鋅、鎵酸鎂或鋅鎵鎂氧合金；

c)完成寬禁帶氧化物膜層的生長后，將生長在相鄰兩個像素單元之間的氧化物膜層刻蝕掉，得到紫外探測器。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟b)中，生長所述寬禁帶氧化物膜層的方式為金屬有機化學氣相沉積或磁控濺射。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬有機化學氣相沉積的真空度為2×10²～1×10⁴Pa。

4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬有機化學氣相沉積的有機源包括鋅源有機物、鎵源有機物和鎂源有機物中的一種或多種；

所述鋅源有機物包括二甲基鋅和/或二乙基鋅；

所述鎵源有機物包括三甲基鎵和/或三乙基鎵；

所述鎂源有機物包括二甲基二茂鎂和/或二乙基二茂鎂。

5.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬有機化學氣相沉積的時間為0.5～5h。

6.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磁控濺射的濺射射頻功率為40～200W。

7.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磁控濺射的壓強為1×10^-2～1×10¹Pa。

8.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磁控濺射的時間為1～3h。