[發明專利]一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法

在審

• 申請號: 202110474044.8
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113203479A
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 楊曉城;楊真乙;蔣明峰
• 申請（專利權）人: 浙江理工大學
• 主分類號: G01J5/00
• 分類號: G01J5/00;G06F17/18;G06F17/16
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 林超

1.一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法，其特征在于，包含如下步驟：

1)利用綜合孔徑輻射計采集觀測場景的可見度函數數據，對可見度函數數據進行處理后獲得可見度函數V；

根據綜合孔徑輻射計的系統特性參數計算獲得綜合孔徑輻射計的系統調制矩陣G；

2)根據可見度函數V和系統調制矩陣G，利用多參數正則化方法獲得特征正則化參數向量；

3)根據特征正則化參數向量，處理獲得觀測場景的反演亮溫分布數據，最終獲得觀測場景的反演亮溫圖像。

2.根據權利要求1所述的一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法，其特征在于，所述特征正則化參數向量通過以下公式進行求解：

α＝(α₁,·α_i·,α_k)^T

min{w(α_i)}

B(α_i)V＝GQ_i

其中，α表示特征正則化參數向量，T表示轉置操作，α_i表示第i個特征正則化參數，i表示序號，i＝1,2,...,k，k表示特征正則化參數的總數，k≥2；w(α_i)表示第i個特征正則化參數的目標值；min{w(α_i)}表示對w(α_i)表示求解第i個特征正則化參數的目標值的最小值，獲得取得最小值時的第i個特征正則化參數α_i；trace()表示取跡操作，I表示單位矩陣，B(α_i)表示第i個特征正則化參數的影響矩陣；是二范數的平方操作；Q_i表示第i個特征正則化參數對應的亮溫分布結果；D_i表示第i個特征正則化矩陣，*表示共軛操作。

3.根據權利要求1所述的一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法，其特征在于，所述反演亮溫分布數據通過以下公式進行設置：

其中，Q為觀測場景的反演亮溫分布數據，*表示共軛操作，α_i表示第i個特征正則化參數，i表示序號，i＝1,2,...,k，k表示特征正則化參數的總數，k≥2；D_i表示第i個特征正則化矩陣。

4.根據權利要求1所述的一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法，其特征在于，所述特征正則化矩陣D為單位矩陣、一階微分矩陣、二階微分矩陣或者其他能反映亮溫圖像特征的矩陣。

5.根據權利要求1所述的一種基于多參數正則化的綜合孔徑輻射計反演處理方法，其特征在于：所述系統特性參數包括每根天線的天線電壓方向圖、條紋洗滌函數、中心頻率、帶寬和積分時間。