[發(fā)明專利]一種有機硅熱合成設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110473648.0 | 申請日: | 2021-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN113351129B | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱艷林;付成龍;劉巖松 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北君邦新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/00 | 分類號: | B01J19/00;B01J4/00;B01D45/16;B01J8/00;B01J8/12 |
| 代理公司: | 武漢維盾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 42244 | 代理人: | 劉翠霞 |
| 地址: | 443700 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 有機硅 合成 設(shè)備 | ||
1.一種有機硅熱合成設(shè)備,其特征在于:包括反應(yīng)器殼體(1)、反應(yīng)器床體(2)、上封頭(3)、下封頭(4)、指形換熱管(5)、風(fēng)帽式氣體分布板(6)和旋風(fēng)分離器(7),所述反應(yīng)器床體(2)安裝在反應(yīng)器殼體(1)底部,所述上封頭(3)安裝在反應(yīng)器殼體(1)頂部,所述下封頭(4)安裝在所述反應(yīng)器床體(2)底部,所述下封頭(4)底部設(shè)有進(jìn)氣口(41);所述風(fēng)帽式氣體分布板(6)與反應(yīng)器床體(2)內(nèi)表面固連,且風(fēng)帽式氣體分布板(6)位于反應(yīng)器床體(2)內(nèi)部靠近底部的部位;所述反應(yīng)器床體(2)底部位于所述風(fēng)帽式氣體分布板(6)上方的部位分別設(shè)有加料管(21)和回料管(22);所述旋風(fēng)分離器(7)安裝在反應(yīng)器殼體(1)內(nèi)部靠近頂部的部位,所述旋風(fēng)分離器(7)為環(huán)流式,且旋風(fēng)分離器(7)包括分離器(71)、回收管(72)、排放管(73)和進(jìn)氣管(74),所述回收管(72)安裝在分離器(71)底部,并與所述反應(yīng)器床體(2)內(nèi)部相通;所述進(jìn)氣管(74)安裝在分離器(71)側(cè)壁并與分離器(71)內(nèi)部相通,所述排放管(73)安裝在分離器(71)頂部并與外界相通;所述指形換熱管(5)包括進(jìn)油管(51)、出油管(52)、換熱管(53),所述換熱管(53)在反應(yīng)器床體(2)內(nèi)部均勻縱向分布;所述換熱管(53)包括內(nèi)管(531)和外管(532),所述內(nèi)管(531)嵌套在外管(532)內(nèi)部,且每個所述內(nèi)管(531)均與進(jìn)油管(51)相通,所述內(nèi)管(531)和外管(532)之間間隙部位與所述出油管(52)相通;所述外管(532)底部安裝有堵頭(8),所述堵頭(8)頂部外表面設(shè)有螺紋,外管(532)底部所設(shè)置的安裝孔(533)內(nèi)表面設(shè)有螺紋,且堵頭(8)頂部螺紋與安裝孔(533)內(nèi)表面螺紋相互嚙合;所述堵頭(8)底部表面為圓弧表面,所述堵頭(8)底部靠近側(cè)壁的部位設(shè)有環(huán)形板(81),所述環(huán)形板(81)內(nèi)表面與外管(532)外表面靠近底部的部位相接觸,且環(huán)形板(81)外表面為倒錐形;
所述環(huán)形板(81)上均勻設(shè)有一組一號槽(811),每個所述一號槽(811)內(nèi)表面靠近外表面的部位都均勻設(shè)有一號塊(812);所述一號塊(812)為鋸齒狀,所述一號槽(811)內(nèi)相對表面的一號塊(812)交錯設(shè)置且互不接觸;
所述堵頭(8)底部設(shè)有十字槽(82),所述十字槽(82)內(nèi)嵌有二號塊(83),所述二號塊(83)通過兩個相同的一號彈片(831)相互垂直交錯固連得到;
所述一號彈片(831)表面靠近固連部的部位均設(shè)有阻隔塊(832),且兩個一號彈片(831)相對表面的阻隔塊(832)交錯設(shè)置;
所述阻隔塊(832)上與所述風(fēng)帽式氣體分布板(6)相對的表面為傾斜曲面(833)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有機硅熱合成設(shè)備,其特征在于:所述反應(yīng)器床體(2)內(nèi)部均勻排布的換熱管(53)中,從靠近反應(yīng)器床體(2)側(cè)壁的換熱管(53)到靠近反應(yīng)器床體(2)中心軸的換熱管(53),換熱管(53)底部的高度逐漸降低。
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