[發(fā)明專利]一種等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110472168.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113152116B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 熊治海;管兵 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江旭川樹脂有限公司 |
| 主分類號(hào): | D06N3/14 | 分類號(hào): | D06N3/14;D06N3/12;D06N3/00 |
| 代理公司: | 南京智造力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32382 | 代理人: | 陳佳佳;汪麗紅 |
| 地址: | 323000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 等離子 技術(shù) 制備 疏水 pu 方法 | ||
1.一種等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)PU濕法貝斯的制備:首先將聚氨酯濕法樹脂混合木質(zhì)纖維素、黑色漿及溶劑DMF,分散均勻后真空脫泡得到混合溶液,并將其均勻涂覆于革用基布表面,涂覆后凝固一段時(shí)間,凝固后取出進(jìn)行壓水及烘干,即可制得PU濕法貝斯;所述聚氨酯濕法樹脂購自浙江旭川樹脂公司,具體為WS-8980、WS-8706、WS-8712、WS-8915B及WS-8703中的一種或多種組合;
(2)取聚氨酯底料混合DMF,分散均勻且脫泡后得到混合液A,待用;所述聚氨酯底料購自浙江旭川樹脂公司,具體為DM-51DTS、DM-54DT、DM-55DT、DM-4027N及DM-4708中的一種或幾種組合;
(3)將聚氨酯干法面料樹脂混合炭黑、DMF充分?jǐn)噭颉⒚撆莺蟮玫交旌弦築,待用;所述聚氨酯干法面料樹脂購自浙江旭川樹脂公司,具體為DF-2090EN、DF-2100EN、DF-80、DF-2022及DF-2058中的一種或幾種組合;
(4)將步驟(3)制備的混合液B均勻涂覆于離型紙表面,烘干后,再于其表面涂覆步驟(2)制備的混合液A,然后將步驟(1)制備的PU濕法貝斯貼于其表面,再次烘干,最終從離型紙表面剝離即可得到PU革;
(5)將步驟(4)制備好的PU革放置于濕度為65~68%的環(huán)境中,于20~23℃溫度條件下預(yù)處理得到預(yù)處理后的PU革;
(6)將預(yù)處理后的PU革放置在等離子發(fā)生器中,通過無線電進(jìn)行放電處理,其中氬氣作為有機(jī)硅的負(fù)載氣體,并控制氬氣流速,使得有機(jī)硅在PU革表面形成連續(xù)的薄膜;即得到疏水性PU革;所述有機(jī)硅為二甲基硅烷、三甲基硅烷、四甲基硅烷或六甲基二硅烷中的一種或幾種組合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(1)中所述聚氨酯濕法樹脂、木質(zhì)纖維素、黑色漿和DMF的質(zhì)量比為100:30:1:50。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(1)中所述分散的條件為5000~8000 r·min-1;所述涂覆厚度為1~1.5 mm;所述凝固一段時(shí)間為10-15min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(2)中所述聚氨酯底料和DMF的質(zhì)量比為2:1;所述分散的條件為5000~8000 r·min-1。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(3)中所述聚氨酯干法面料樹脂、炭黑和DMF的質(zhì)量比為100:3:80;所述分散的條件為5000~8000r·min-1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(4)中所述混合液B均勻涂覆于離型紙表面涂覆厚度為0.1~0.15 mm;所述混合液A涂覆的厚度為0.1~0.15 mm;所述烘干的溫度均為110℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(5)中所述預(yù)處理的時(shí)間為24 h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(6)中所述有機(jī)硅的體積占?xì)鍤馀c有機(jī)硅總體積的2%。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述等離子技術(shù)制備疏水性PU革的方法,其特征在于,步驟(6)中所述氬氣流速6 L·min-1~9 L·min-1;所述等離子發(fā)生器的功率為40W~70W;所述放電處理的時(shí)間為20~30min。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江旭川樹脂有限公司,未經(jīng)浙江旭川樹脂有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110472168.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 技術(shù)評(píng)價(jià)裝置、技術(shù)評(píng)價(jià)程序、技術(shù)評(píng)價(jià)方法
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 視聽模擬技術(shù)(VAS技術(shù))
- 用于技術(shù)縮放的MRAM集成技術(shù)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的方法和用戶接口、以及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 用于監(jiān)測技術(shù)設(shè)備的技術(shù)
- 技術(shù)偵查方法及技術(shù)偵查系統(tǒng)
- 使用投影技術(shù)增強(qiáng)睡眠技術(shù)
- 基于技術(shù)庫的技術(shù)推薦方法





