[發明專利]應變分布測量系統及應變分布測量方法

在審

• 申請號: 202110471822.8
• 申請日: 2021-04-29
• 公開（公告）號: CN113702174A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 永島知貴;巖永幸満;平山紀夫
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G01N3/08
• 分類號: G01N3/08;G01B11/16
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 薛恒;徐川

本發明提供一種應變分布測量系統及應變分布測量方法。本發明的課題為減少材料試驗機的用以測定試驗片的應變分布的用戶工時。應變分布測量系統(100)包括：拉伸試驗機(1)，使試驗片(TP)變形來測定試驗片(TP)的材料的機械特性；以及應變分布測量裝置(200)，測量試驗片(TP)的應變分布，并且應變分布測量裝置(200)基于試驗片(TP)的主面(MF)的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量試驗片(TP)的應變分布。

技術領域

本發明涉及一種利用材料試驗機而變形的試驗片的應變分布測量系統及應變分布測量方法。

背景技術

已知對利用材料試驗機而變形的試驗片的表面的位移進行測量的各種技術。

例如，專利文獻1中公開了如下技術：位移測量裝置包括：攝影部，對包括設置于既定位置的位移測量用格子的位移測量用圖像進行拍攝；格子區域檢測部，自位移測量用圖像中檢測格子的區域，選取此格子區域的圖像；相位分布導出部，對于所選取的格子區域的圖像，利用采樣波紋法來導出波紋相對于格子區域的圖像的相位分布；以及位移決定部，根據由相位分布來求出的既定位置的位移前后的相位差、以及預先確定的格子間距，來決定既定位置的位移。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-174874號公報

發明內容

[發明所要解決的問題]

然而，專利文獻1所述的位移測量裝置中，需要在試驗片的表面形成位移測量用的格子花紋等。例如，在測定拉伸試驗機的試驗片的位移分布的情況下，用戶需要將例如格子花紋之類的花紋涂布或貼附于試驗片的表面，需要用戶的工時。

本發明是鑒于如上所述的情況而形成，目的在于提供一種能夠減少材料試驗機的用以測定試驗片的應變分布的用戶工時的應變分布測量系統、以及應變分布測量方法。

[解決問題的技術手段]

本發明的第一形態涉及一種應變分布測量系統，包括：材料試驗機，使試驗片變形來測定所述試驗片的材料的機械特性；以及應變分布測量裝置，測量所述試驗片的應變分布，并且所述應變分布測量裝置包括控制部，基于所述試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量所述試驗片的應變分布。

本發明的第二形態涉及一種應變分布測量方法，是應變分布測量系統中的應變分布測量方法，所述應變分布測量系統包括：材料試驗機，使試驗片變形來測定所述試驗片的材料的機械特性；以及應變分布測量裝置，測量所述試驗片的應變分布，并且所述應變分布測量裝置基于所述試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量所述試驗片的應變分布。

[發明的效果]

根據本發明的第一形態，基于試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量試驗片的應變分布。

因此，由于基于試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布來測量試驗片的應變分布，故而能夠在不將如格子花紋之類的花紋涂布或貼附于試驗片的情況下，測量試驗片的應變分布。因此，能夠削減將如格子花紋之類的花紋涂布或貼附于試驗片的用戶工時。其結果為，能夠減少材料試驗機的用以測定試驗片的應變分布的用戶工時。

根據本發明的第二形態，基于試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量試驗片的應變分布。

因此，由于基于試驗片的主面的反射率及偏光特性中的至少任一者的分布，來測量試驗片的應變分布，故而能夠在不將如格子花紋之類的花紋涂布或貼附于試驗片的情況下，能夠測量試驗片的應變分布。因此，能夠削減將如格子花紋之類的花紋涂布或貼附于試驗片的用戶工時。其結果為，能夠減少材料試驗機的用以測定試驗片的應變分布的用戶工時。

附圖說明