[發明專利]一種大導通電流的碳化硅二極管有效
| 申請號: | 202110471180.1 | 申請日: | 2021-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN113193052B | 公開(公告)日: | 2023-02-14 |
| 發明(設計)人: | 張攀 | 申請(專利權)人: | 東莞市佳駿電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/872 | 分類號: | H01L29/872;H01L29/47;H01L23/367 |
| 代理公司: | 東莞市永橋知識產權代理事務所(普通合伙) 44400 | 代理人: | 姜華 |
| 地址: | 523808 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 通電 碳化硅 二極管 | ||
1.一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,包括豎立設置的肖特基金屬板(10),所述肖特基金屬板(10)的相對兩側均連接有一個陰極模塊板(20),所述肖特基金屬板(10)和兩個所述陰極模塊板(20)外包圍有陶瓷保護套(30);
所述肖特基金屬板(10)中設有豎立的高導電芯層(11),所述高導電芯層(11)的頂部連接有水平的陽極金屬層(12),所述陽極金屬層(12)覆蓋在所述肖特基金屬板(10)的頂端面上;所述肖特基金屬板(10)和兩個所述陰極模塊板(20)的底部設有鈍化層(42),所述鈍化層(42)為二氧化硅層;
所述陰極模塊板(20)包括從內到外依次層疊于肖特基金屬板(10)側面的N型外延層(21)、N型襯底(22)和歐姆接觸層(23),所述歐姆接觸層(23)的頂部連接有水平的陰極金屬層(24),所述陰極金屬層(24)覆蓋于所述N型襯底(22)的頂面;
所述陶瓷保護套(30)與所述肖特基金屬板(10)及所述N型外延層(21)、N型襯底(22)和歐姆接觸層(23)平行;所述陶瓷保護套(30)與所述歐姆接觸層(23)接觸;
所述陽極金屬層(12)與所述陰極金屬層(24)之間設有絕緣防護層(40),所述絕緣防護層(40)上設有防溢層(41),所述防溢層(41)位于所述陽極金屬層(12)和所述陰極金屬層(24)所在平面的上方。
2.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述肖特基金屬板(10)的厚度為D,所述高導電芯層(11)的厚度為d,D≥3d。
3.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述肖特基金屬板(10)為氮化鈦板或鈦鋁合金板。
4.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述高導電芯層(11)為石墨烯層。
5.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述陽極金屬層(12)為金屬銅層或金屬鎢層,所述陰極金屬層(24)為金屬銅層或金屬鎢層。
6.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述N型襯底(22)為N+型碳化硅單晶片,所述N型外延層(21)為N-型碳化硅單晶片。
7.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述歐姆接觸層(23)為金屬鎳層或金屬鎘層。
8.根據權利要求1所述的一種大導通電流的碳化硅二極管,其特征在于,所述N型外延層(21)的上下兩端內均設有P型注入層(25),所述P型注入層(25)的端面與所述肖特基金屬板(10)的側面連接。
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