[發明專利]一種精制鞣酸用半導體新材料制備設備

在審

• 申請號: 202110469431.2
• 申請日: 2021-04-28
• 公開（公告）號: CN113372569A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 俞仁龍
• 申請（專利權）人: 俞仁龍
• 主分類號: C08H7/00
• 分類號: C08H7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供一種精制鞣酸用半導體新材料制備設備，其結構包括支撐座、開關鍵、成品箱、取料筒、加工箱、壓力表，支撐座與開關鍵進行卡合連接，成品箱安裝于支撐座的上端，取料筒嵌入于成品箱的上端，加工箱與成品箱相互連接，壓力表嵌入于加工箱的前端，本發明由鞣酸制備設備內部所裝有的調節裝置的濾層效果下能夠有效的保證鞣酸鱗片在加工完畢以后進行干燥處理前進行將鱗片表端上的水珠進行處理，進而鱗片不斷通過濾槽能夠有效的被濾槽內部的活動器進行將表端的水珠進行處理，從而鱗片達到干燥處能夠形成表端無水珠與雜質的效果從而能夠防止直接干燥形成的殘留水漬與雜質的效果導致影響鞣酸的反應數值與使用效果。

技術領域

本發明涉及半導體新材料制備領域，更具體地說是一種精制鞣酸用半導體新材料制備設備。

背景技術

鞣酸為黃色或淡棕色的無晶性粉末或者鱗片，并且其具有無臭、有著特殊氣味的情況，從而通過自身的抗氧性、抑菌等效果能夠有效的使半導體新材料延長自身的使用周期與增強半導體的性能致使制備設備通過自身內部的加工、水洗、干燥即可得到鞣酸材質，從而能夠有效進行批量生產；

綜上所述本發明人發現，現有的新材料制備設備主要存在以下缺陷：鞣酸為鱗片狀態時在通過制備設備進行制造生產水洗干燥的過程中，鱗片在水洗后端面上會形成多個水珠并且水珠通過自身的吸附性會與鱗片的端面相互貼合，致使鱗片在進行干燥處理時水珠直接在鱗片上蒸發掉會形成端面上殘留水珠的痕跡，致使殘留的水珠痕跡的形成是由于內部帶有相應的雜質，在帶有雜質水珠痕跡的影響下會直接對鞣酸反應數值與使用效果產生相應的影響。

發明內容

本發明實現技術目的所采用的技術方案是：一種精制鞣酸用半導體新材料制備設備，其結構包括支撐座、開關鍵、成品箱、取料筒、加工箱、壓力表，所述支撐座與開關鍵進行卡合連接，所述成品箱安裝于支撐座的上端，所述取料筒嵌入于成品箱的上端，所述加工箱與成品箱相互連接，所述壓力表嵌入于加工箱的前端。

所述加工箱設有固定塊、卡合槽、調節裝置、排氣端，所述固定塊與卡合槽為一體，所述調節裝置嵌入于卡合槽之中，所述排氣端安裝于調節裝置的中心位置，所述固定塊為實心狀態，并且其與卡合槽均設有四個。

作為本發明的進一步改進，所述調節裝置設有固定板、處理槽、實心塊，所述固定板與處理槽為一體，所述實心塊固定連接于固定板的中心位置，所述固定板為斜狀并且與處理槽進行相互連接的狀態。

作為本發明的進一步改進，所述處理槽設有調節層、通格、處理器，所述調節層與通格進行活動連接，所述處理器嵌入于通格的兩側，所述調節層為彈性體材質所制成，并且能夠有效的調節通格的直徑效果，從而處理器在通格的兩側一共設有六個。

作為本發明的進一步改進，所述處理器設有螺栓、限位環、轉輪、收集塊，所述螺栓螺紋連接于限位環的中心位置，所述轉輪與螺栓進行間隙配合，所述收集塊嵌入于轉輪之中，所述螺栓為螺紋制品，并且能夠與實心的限位環進行相應的螺紋連接，從而轉輪與螺栓之中具有相應的間隙效果，并且收集塊在轉輪中一共設有六個。

作為本發明的進一步改進，所述收集塊設有實心層、引導槽、收集槽、導出圈，所述實心層與引導槽為一體，所述收集槽與引導槽相通，所述導出圈嵌入于收集槽的中間位置，所述實心層為三角形形狀，并且上端的引導槽為空心狀態且為倒平角形狀，從而收集槽為不銹鋼材質所制成，并且導出圈具有相應的把手與卡扣。

作為本發明的進一步改進，所述實心塊設有固定塊、支撐軸、旋轉軸、凸塊，所述固定塊上端與支撐軸為一體，所述旋轉軸與支撐軸進行活動連接，所述凸塊安裝于旋轉軸的上端，所述凸塊為三角形狀，并且其端面為倒圓角形狀。

作為本發明的進一步改進，所述凸塊設有插入桿、固定板、緩沖軸，所述插入桿嵌入于固定板之中，所述緩沖軸嵌入于固定板之中，所述固定板為不銹鋼材質所制成，并且其外端端面均為拋光狀態。