[發明專利]一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置及其使用方法

在審

• 申請號: 202110466601.1
• 申請日: 2021-04-28
• 公開（公告）號: CN113290676A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發明（設計）人: 陳浩彬
• 申請（專利權）人: 陳浩彬
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B28B17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，包括施釉裝置機架(1)，其特征在于：所述施釉裝置機架(1)的前端開鑿有操作窗(2)，所述操作窗(2)內合頁連接有一對于自身相匹配的密封窗(14)，所述施釉裝置機架(1)的側壁上固定連接有轉動固定座(5)，所述轉動固定座(5)內插接有電瓷絕緣子胚體(6)，所述施釉裝置機架(1)遠離操作窗(2)的內壁上開鑿有與轉動固定座(5)高度相匹配的電磁滑槽(8)，所述電磁滑槽(8)內滑動連接有與自身相匹配的電磁滑塊(9)，所述電磁滑塊(9)遠離電磁滑槽(8)的一端固定連接有噴射裝置(10)，所述噴射裝置(10)裝填有施釉球，所述施釉球包括彈性球(11)，所述彈性球(11)內裝填有釉料，所述彈性球(11)內壁固定連接有支撐骨架(12)，所述支撐骨架(12)選用高強度的耐火材料，所述彈性球(11)的外壁上固定有保護纖維簇(13)，所述保護纖維簇(13)包括等多個三維螺旋纖維(1301)，多個所述三維螺旋纖維(1301)遠離彈性球(11)的一端相互糾纏搭接在一起；

一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置的使用方法，首先打開密封窗(14)，將電瓷絕緣子胚體(6)固定安裝到轉動固定座(5)上，之后密閉密封窗(14)，由工作人員向控制終端內輸入轉動固定座(5)轉速、電磁滑塊(9)在電磁滑槽(8)內的移動速度和移動范圍和噴射裝置(10)噴射速度的相關參數，之后施釉裝置機架(1)內的各個裝置開始安裝設定的參數進行工作，電瓷絕緣子胚體(6)在轉動固定座(5)的帶動下進行低速轉動，此時電磁滑塊(9)帶動噴射裝置(10)在電磁滑槽(8)內做低速的往復運動，并將噴射裝置(10)內裝填的施釉球噴射向電瓷絕緣子胚體(6)，施釉球在與電瓷絕緣子胚體(6)表面接觸后，會在強烈的沖擊作用下發生破裂，并在釉料的作用下粘附在電瓷絕緣子胚體(6)的表面，同時施釉球會在噴射裝置(10)的噴射作用下持續向電瓷絕緣子胚體(6)飛去，在施釉球與電瓷絕緣子胚體(6)表面接觸時電瓷絕緣子胚體(6)表面已經存在以破裂的施釉球時，在彈性球(11)外表面的保護纖維簇(13)作用下，會大幅緩沖兩個施釉球之間撞擊產生的沖擊，原本貼附在電瓷絕緣子胚體(6)表面的彈性球(11)會在后續施釉球的左右下逐漸平整，而后面飛向電瓷絕緣子胚體(6)的施釉球則會彈開，落到電瓷絕緣子胚體(6)的下方。

2.根據權利要求1所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述密封窗(14)選用彈性透明材料制成，優選為TPEE，且成型后的密封窗(14)富有彈性。

3.根據權利要求1所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述施釉裝置機架(1)的上端開鑿有觀望窗口(3)，所述觀望窗口(3)貫穿施釉裝置機架(1)的上壁。

4.根據權利要求3所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述觀望窗口(3)內固定連接有與自身相匹配的透明亞力克板(4)。

5.根據權利要求1所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述施釉裝置機架(1)內裝填有緩沖水，所述緩沖水位于轉動固定座(5)和電瓷絕緣子胚體(6)的下側。

6.根據權利要求5所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述緩沖用水的上漂浮有防濺水網(7)，所述防濺水網(7)平鋪在緩沖水上。

7.根據權利要求6所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述防濺水網(7)包括彈性骨架(701)，所述彈性骨架(701)的孔徑為施釉球直徑的三倍。

8.根據權利要求7所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述彈性骨架(701)利用多個彈性纖維絞合編織而成，增加彈性骨架(701)整體的彈性。

9.根據權利要求7所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：所述彈性骨架(701)內固定連接有填充纖維簇(702)，所述填充纖維簇(702)包括多個彈性纖維，多個所述彈性纖維相互搭接填充彈性骨架(701)的空隙。

10.根據權利要求9所述的一種用于電瓷絕緣子的施釉裝置，其特征在于：多個所述彈性纖維均為中空結構，增加彈性纖維的彈性。