[發明專利]基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法在審
| 申請號： | 202110463063.0 | 申請日： | 2021-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN113204131A | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發明（設計）人： | 陳明;張佑丹;王帥釗;苑立波 | 申請（專利權）人： | 桂林電子科技大學 |
| 主分類號： | G02F1/01 | 分類號： | G02F1/01 |
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| 地址： | 541004 廣西*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 石墨 金屬 諧振器 渦旋 聚焦 方法 | ||
1.一種基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法。其特征是：它由底層和頂層周期性圖案化的金屬層1、中間的介質層3以及嵌在介質層3中的石墨烯層2構成，通過陣列原始手性超表面結構和其鏡像結構，實現動態太赫茲近場成像。
2.根據權利要求1所述的基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法。其特征是：該單元結構周期為65μm×65μm，且該結構與其鏡像結構不重合。
3.根據權利要求1所述的基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法。其特征是：底層和頂層的金屬層1由厚度為0.2μm的金構成，其中，頂層的金是由兩缺環諧振器1-1、1-2構成，兩缺環諧振器1-1、1-2的旋轉角為45°間距為2μm，環寬為4μm，且大缺環諧振器1-1的外半徑為24μm，缺口角為55°，小缺環諧振器1-2的缺口角為65°。
4.根據權利要求1所述的基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法。其特征是：中間的介質層3的材料為聚酰亞胺，其厚度為36μm，相對介電常數ε＝3.5+0.00945i。
5.根據權利要求1所述的基于石墨烯-金屬裂環諧振器渦旋聚焦的方法。其特征是：通過旋轉原始的石墨烯-金屬裂環諧振器單元結構至不同的角度并陣列為50*50的超表面結構。太赫茲場的相位分布為：其中，x，y屬于這個超表面中原點為(x0,y0)的任意點的坐標，λ是對應共振頻率處的波長，f是焦距，l是指定軌道角動量狀態的整數，δ是方位角。
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