[發(fā)明專利]一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110461374.3
• 申請(qǐng)日: 2021-04-27
• 公開（公告）號(hào): CN113126290B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張琛;章裕;劉紫涵;董宇崢;白晉濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西北大學(xué)
• 主分類號(hào): G02B27/00
• 分類號(hào): G02B27/00
• 代理公司: 北京睿智保誠(chéng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11732
• 代理人: 韓迎之

1.一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法，其特征在于，具體步驟包括如下：

根據(jù)預(yù)期焦點(diǎn)數(shù)，構(gòu)建多區(qū)域相位分布圖；

根據(jù)純相位分布公式，獲得各焦點(diǎn)相位參數(shù)；

通過(guò)MATLAB仿真將所述各焦點(diǎn)相位參數(shù)填充所述多區(qū)域相位分布圖，得到多焦點(diǎn)相位圖；

將所述多焦點(diǎn)相位圖加載在空間光調(diào)制器上進(jìn)行相位調(diào)制，再利用光束緊聚焦產(chǎn)生多焦點(diǎn)陣列；

所述構(gòu)建多區(qū)域相位分布圖的具體步驟為：

將入射光束截面區(qū)域均等分為N個(gè)區(qū)域，所述入射光束截面區(qū)域分為中心為一個(gè)圓形區(qū)域和所述圓形區(qū)域周圍為N-1個(gè)扇環(huán)，其中N為奇數(shù)且大于1；

將每個(gè)所述扇環(huán)均等分為M個(gè)子扇環(huán)，所述圓形區(qū)域均等分為M個(gè)子區(qū)域；

若M為偶數(shù)，將所述圓形區(qū)域均等分為M個(gè)扇形；

若M為奇數(shù)，將所述圓形區(qū)域均等分為中心為一個(gè)子圓形區(qū)域和所述子圓形區(qū)域周圍M-1個(gè)第一扇環(huán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法，其特征在于，所述圓形區(qū)域的半徑為其中R為所述入射光束的半徑；所述扇環(huán)的角度為

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法，其特征在于，每個(gè)所述子扇環(huán)的角度為每個(gè)所述扇形的角度為所述子圓形區(qū)域的半徑為每個(gè)所述第一扇環(huán)的角度為

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法，其特征在于，所述純相位分布公式為：

其中，(x₀，y₀)為后光闌的直角坐標(biāo)，λ為激光波長(zhǎng)，r為孔徑光闌半徑，n_t為透鏡浸沒介質(zhì)折射率，NA為透鏡的數(shù)值孔徑，(Δx,Δy)為焦點(diǎn)位置坐標(biāo)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于產(chǎn)生可控多焦點(diǎn)陣列的相位調(diào)制方法，其特征在于，所述子扇環(huán)的個(gè)數(shù)與所述預(yù)期焦點(diǎn)數(shù)相同。