[發明專利]一種陶瓷-金屬復合結構光熱波場建模方法有效
| 申請號: | 202110459603.8 | 申請日: | 2021-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN113343547B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發明(設計)人: | 張輝;羅志濤;倪中華;毛飛龍 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | G06F30/25 | 分類號: | G06F30/25;G06F113/26;G06F119/08;G06F119/14 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467 | 代理人: | 王雪 |
| 地址: | 210000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 金屬 復合 結構 光熱 建模 方法 | ||
1.一種陶瓷-金屬復合結構光熱波場建模方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1,根據半透明表面涂層的光學特性,利用蒙特卡洛模擬法并結合Levenberg-Marquardt和全局通用優化算法,獲得半透明表面涂層內部擴散光子密度波場分布;
步驟2,基于步驟1的所獲得的表面涂層內部擴散光子密度波場,建立三層陶瓷-金屬復合結構的空間熱源分布,包括半透明表面涂層空間變化體積熱源和內部界面熱源;
步驟3,基于格林函數法以及三層陶瓷-金屬復合結構的外部與內部界面的邊界條件,推導出三層陶瓷-金屬復合結構的空間脈沖響應;
步驟4,基于步驟2的三層結構的空間熱源分布以及步驟3的三層陶瓷-金屬復合結構的空間脈沖響應,并利用熱波擴散方程,獲得三層陶瓷-金屬復合結構的光熱波場;
步驟5,基于步驟4的三層陶瓷-金屬復合結構的光熱波場,最終獲得三層陶瓷-金屬復合結構探測表面的熱波場分布。
2.根據權利要求1所述的陶瓷-金屬復合結構光熱波場建模方法,其特征在于:所述步驟2中,空間變化體積熱源及內部界面熱源為:
其中,ω為調制頻率,δ為狄拉克函數,μa1為半透明表面涂層光學吸收系數,ηNR1為半透明表面涂層光熱轉化系數,Iz(z)為隨深度z的擴散光子密度波場分布;
其中,當0≤z<L1時,其為半透明表面涂層的空間變化體積熱源;
當z=L1時,其為半透明表面涂層與不透明粘結層間的內部界面熱源;
L1表示所述三層陶瓷-金屬復合結構中半透明表面涂層的厚度。
3.根據權利要求2所述的陶瓷-金屬復合結構光熱波場建模方法,其特征在于:所述步驟3中的基于格林函數的三層陶瓷-金屬復合結構的空間脈沖響應為:
其中,G1、H2和H3分別表示半透明表面涂層、不透明粘結層和不透明基體層的空間脈沖響應,σ1、σ2和σ3分別表示半透明表面涂層、不透明粘結層和不透明基體層的復波數,L1,L2和L3分別為半透明表面涂層、不透明粘結層和不透明基體層的厚度,z0為熱源位置,α1為半透明表面涂層的熱擴散率;
通過對上述格林函數進行求解,得到如下通解:
H2(z,z0;ω)=A5exp[σ2(z-L1)]+A6exp[-σ2(z-L1)],L1<z≤L1+L2(3b)
H3(z,z0;ω)=A7exp[σ3(z-L1-L2)]+A8exp[-σ3(z-L1-L2)],L1+L2<z≤L(3c);
其中,L=L1+L2+L3;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8都表示待定系數,
而邊界條件表達為:
G1(L1|z0;ω)=H2(L1,z0;ω)(4e)
H2(L1+L2,z0;ω)=H3(L1+L2,z0;ω)(4g)
其中,k1,k2和k3分別為半透明表面涂層、不透明粘結層和不透明基體的熱傳導率;
則根據上述公式4(a)至公式4(h)的邊界條件確定待定系數A1-A8分別為:
A3=Φ1[M1exp(σ1z0)+M1exp(-σ1z0)+M2](5c)
A4=Φ2[M1exp(σ1z0)+M1exp(-σ1z0)+M2](5d)
A7=[M1exp(σ1z0)+M1exp(-σ1z0)+M2]exp(-2σ3L3)(5g)
A8=M1exp(σ1z0)+M1exp(-σ1z0)+M2(5h)
其中,
ψ32=(1-θ32)exp(-2σ3L3)+(1+θ32)(5k)
M1=1/(2γα1σ1)(5o)
M2=Q(0,ω)/(γk1σ1)(5p)
M3=Φ2M2(5q)
M4=Φ1M2(5u)
其中,表示熱不匹配因子,φ32和ψ32被定義為雙層耦合函數,和被定義為三層耦合函數,Φ1、Φ2、γ、M1、M2、M3和M4被定義為中間參數、無實際意義;
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