[發明專利]一種多孔離子超分子框架材料、制備方法以及應用有效
| 申請號: | 202110459368.4 | 申請日: | 2021-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN113174055B | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發明(設計)人: | 王明;吳立新;許亞萍 | 申請(專利權)人: | 吉林大學 |
| 主分類號: | C08G83/00 | 分類號: | C08G83/00;C07F15/00;C07D213/30 |
| 代理公司: | 成都領航高智知識產權代理有限公司 51285 | 代理人: | 王斌 |
| 地址: | 130012 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 多孔 離子 分子 框架 材料 制備 方法 以及 應用 | ||
1.一種多孔離子超分子框架材料的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
將金屬有機超分子溶解于有機溶劑中,形成溶液A;
將多金屬氧酸鹽溶解于有機溶劑中,形成溶液B;
將溶液A滴加入溶液B中或將溶液B滴加入溶液A中,在20~60℃溫度條件下,反應0.1~5h,冷卻至室溫后,經后處理獲得多孔離子超分子框架材料;
所述金屬有機超分子為有機配體和金屬離子之間通過配位作用自組裝而成的具有二維或三維結構的超分子,以及聚合物;
所述多孔離子超分子框架材料結構為[Zn3LA3][Mo6O19]3、[Zn3LB3][Mo6O19]3[Zn3LC3][Mo6O19]3或[Zn3LD3][Mo6O19]3:
其中,化合物[Zn3LA3][Mo6O19]3,R=H;化合物[Zn3LB3][Mo6O19]3,
R=OCH3;化合物[Zn3LC3][Mo6O19]3,R=O(CH2)5CH3;化合物[Zn3LD3][Mo6O19]3,R=O(CH2)15CH3;
或者所述多孔離子超分子框架材料結構為:[Pd4LE4][SiW12O40]2:
或者所述多孔離子超分子框架材料結構為:[Zn6LH6]3[EuW10O36]4:
其中R為醚氧基;
或者所述多孔離子超分子框架材料結構為:[Zn12LM6][P2W18O62]4:
其中R為醚氧基;
或者所述多孔離子超分子框架材料結構為:[Fe6LN4][MnMo9O32]2:
,其中R為醚氧基。
2.根據權利要求1所述的一種多孔離子超分子框架材料的制備方法,其特征在于:所述多金屬氧酸鹽為過渡金屬離子通過氧連接而形成的一類多金屬氧簇化合物。
3.根據權利要求1所述的一種多孔離子超分子框架材料的制備方法,其特征在于:所述溫度條件為50℃。
4.根據權利要求1所述的一種多孔離子超分子框架材料的制備方法,其特征在于:所述有機溶劑為芳香烴類、脂肪烴類、醇類、醚類、酯類、二醇衍生物、乙腈、吡啶、苯酚、N-甲基吡咯烷酮,DMF或DMSO中的一種或多種。
5.根據權利要求4所述的一種多孔離子超分子框架材料的制備方法,其特征在于:所述有機溶劑為乙腈、DMSO或N-甲基吡咯烷酮。
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