[發(fā)明專利]發(fā)光元件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110458285.3 | 申請日： | 2021-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN113611784A | 公開（公告）日： | 2021-11-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王心盈;陳之皓;廖健智;陳昭興;駱武聰;柯淙凱;歐震 | 申請（專利權(quán)）人： | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/44 | 分類號： | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人： | 陳小雯 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)光 元件 | ||
1.一種發(fā)光元件，其特征在于，包含：
基板，包含側(cè)邊、第一上表面及第二上表面，其中該第二上表面較該第一上表面靠近該基板的該側(cè)邊；
半導(dǎo)體疊層，位于該基板上，該半導(dǎo)體疊層包含第一半導(dǎo)體層、活性層及第二半導(dǎo)體層；
切割道，環(huán)繞該半導(dǎo)體疊層，并露出該基板的該第一上表面及該第二上表面；
保護(hù)層，覆蓋該半導(dǎo)體疊層；
反射層，包含分布式布拉格反射鏡結(jié)構(gòu)，覆蓋該保護(hù)層；以及
包覆層，覆蓋該反射層，
其中，該基板的該第二上表面未被該保護(hù)層、該反射層及該包覆層覆蓋。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該反射層與該包覆層覆蓋該基板的該第一上表面。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該包覆層包覆該反射層。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該包覆層的外緣與該反射層的外緣切齊。
5.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該反射層未覆蓋該基板的該第一上表面，該包覆層覆蓋該基板的該第一上表面。
6.如權(quán)利要求5所述的發(fā)光元件，其中該反射層的外緣與該第一半導(dǎo)體層的外緣相隔一距離。
7.如權(quán)利要求5所述的發(fā)光元件，其中該反射層的外緣與該第一半導(dǎo)體層的外緣切齊。
8.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該第一半導(dǎo)體層包含第一臺面及第二臺面，其中該第二臺面較該第一臺面靠近該基板的該側(cè)邊。
9.如權(quán)利要求8所述的發(fā)光元件，其中該包覆層覆蓋該基板的該第一上表面。
10.如權(quán)利要求8所述的發(fā)光元件，其中該反射層的外緣與該第二臺面的外緣切齊或相隔一距離。
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