[發(fā)明專利]發(fā)光元件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110458091.3 | 申請日： | 2021-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN113611783A | 公開（公告）日： | 2021-11-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王心盈;陳之皓;廖健智;陳昭興;駱武聰;柯淙凱;歐震 | 申請（專利權(quán)）人： | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/44 | 分類號： | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人： | 陳小雯 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)光 元件 | ||
1.一種發(fā)光元件，其特征在于，包含：
基板，包含上表面及側(cè)邊；
半導(dǎo)體疊層，位于該基板的該上表面上，該半導(dǎo)體疊層包含第一半導(dǎo)體層、活性層及第二半導(dǎo)體層；
切割道，環(huán)繞該半導(dǎo)體疊層，并露出該基板的該上表面；
保護(hù)層，覆蓋該半導(dǎo)體疊層及該切割道；
反射層，包含分布式布拉格反射鏡結(jié)構(gòu)，位于該保護(hù)層之上；以及
包覆層，覆蓋該反射層，
其中，該反射層包含不均勻部鄰近該基板的該側(cè)邊，且該不均勻部包含不均勻的厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該反射層的該不均勻部包含多個膜層，且該多個膜層的末端包含楔形。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該反射層的該不均勻部包含多個膜層，且該多個膜層的末端的厚度于朝向該基板的方向上漸減。
4.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該包覆層的末端包含楔形。
5.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該包覆層的末端的厚度在一方向上漸減。
6.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該基板的該上表面包含水平面，以及傾斜面連接至該水平面。
7.如權(quán)利要求6所述的發(fā)光元件，其中該保護(hù)層覆蓋該基板的該傾斜面。
8.如權(quán)利要求6所述的發(fā)光元件，其中該反射層的該不均勻部為全部或部分覆蓋該基板的該傾斜面。
9.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其中該基板還包含第一粗化部位于該基板的該側(cè)邊上。
10.如權(quán)利要求6所述的發(fā)光元件，其中該基板包含第二粗化部位于該基板的該傾斜面，且該第二粗化部位于該基板的該側(cè)邊上。
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