[發(fā)明專利]一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法

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• 申請日: 2021-04-27
• 公開（公告）號: CN113122844A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃俊;楊思雨;徐吉林;孫宇航;崔世宇;羅軍明;張劍平
• 申請（專利權(quán)）人: 南昌航空大學(xué)
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;C25D11/02;C25D11/34;C23C14/16;C23C14/34
• 代理公司: 南昌市平凡知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 36122
• 代理人: 張文杰

1.一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）先將鎳基合金基體置于電解液中進(jìn)行微弧氧化，在鎳基合金表面形成微弧氧化陶瓷膜層；

（2）再將微弧氧化后的鎳基合金進(jìn)行等離子濺射，在微弧氧化陶瓷膜層表面形成NiCrAlY涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：所述鎳基合金進(jìn)行微弧氧化之前先用金相砂紙打磨至表面無劃痕，再進(jìn)行酸洗、干燥。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：所述電解液為硝酸鋁酒精溶液。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：所述電解液中，硝酸鋁的濃度為0.05-0.11mol/L。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項權(quán)利要求所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于，所述微弧氧化的工藝參數(shù)為：脈沖電源頻率為500HZ，死區(qū)時間為5%，正負(fù)占空比分別為45%和-45%。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：電壓的可調(diào)范圍為400V-500V，當(dāng)鎳基合金被擊穿時，在反應(yīng)槽中出現(xiàn)劇烈的弧光放電，微弧氧化進(jìn)行反應(yīng)可調(diào)控的時間為20min-120min，反應(yīng)完成后將電壓和電流調(diào)至0，并點擊微弧氧化脈沖電源觸摸屏上的關(guān)閉按鈕，使試樣隨反應(yīng)槽冷卻至室溫，在鎳基合金表面形成微弧氧化陶瓷膜層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：所述微弧氧化過程中緩慢增大電壓，至弧光放電后保持電壓不變。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項權(quán)利要求所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：將微弧氧化后的試樣放入等離子濺射儀器中，將NiCrAlY靶材置于試樣上方，所述等離子濺射工藝中，陰極脈沖電源參數(shù)為：電壓調(diào)控范圍為400-600V，電流調(diào)控范圍為1-2A，占空比為80%。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項權(quán)利要求所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于，所述等離子濺射工藝中，陽極脈沖電源參數(shù)為：電壓調(diào)控范圍為700-900V，電流調(diào)控范圍為1-2A，占空比為80%。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項權(quán)利要求所述的一種在鎳基合金表面微弧氧化-等離子濺射制備復(fù)合涂層的方法，其特征在于：所述等離子濺射是在真空環(huán)境中進(jìn)行的，工作氣壓可調(diào)控范圍為15-50Pa。