[發(fā)明專利]蓋板及其制作方法、顯示面板

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110456773.0
• 申請日: 2021-04-27
• 公開（公告）號: CN113189821A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 王虎
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 徐世俊

1.一種蓋板，其特征在于，所述蓋板還包括：

襯底基板；

至少一聚光結(jié)構(gòu)，所述聚光結(jié)構(gòu)設置于所述襯底基板上并突出于所述第一襯底基板的表面，用以對穿過所述蓋板的光進行匯聚；以及，

一平坦層，所述平坦層設置于所述聚光結(jié)構(gòu)上并覆蓋所述聚光結(jié)構(gòu)和所述襯底基板；

其中所述聚光結(jié)構(gòu)的材質(zhì)為第一光刻膠，所述平坦層材質(zhì)為第二光刻膠，所述第二光刻膠的折射率小于所述第一光刻膠的折射率。

2.如權(quán)利要求1所述的蓋板，其特征在于，所述第一介質(zhì)的折射率的范圍1.3-1.45，所述第二介質(zhì)的折射率的范圍為1.2-1.4。

3.如權(quán)利要求1所述的蓋板，其特征在于，所述聚光結(jié)構(gòu)從所述襯底基板的表面朝向遠離所述襯底基板的方向延伸并且所述聚光結(jié)構(gòu)具有相對的平面和曲面凸面；

其中所述聚光結(jié)構(gòu)的平面貼合在所述第一襯底基板上；

所述聚光結(jié)構(gòu)的曲面凸面與所述平坦層接觸。

4.一種顯示面板，其特征在于，在所述顯示面板的出光側(cè)表面設置有權(quán)利要求1-3中任一項所述的蓋板。

5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括多個光敏器件，至少一所述光敏器件位于所述聚光結(jié)構(gòu)在所述顯示面板上的正投影內(nèi)。

6.如權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板具有一彩膜基板，所述多個光敏器件設置所述彩膜基板中；

其中所述蓋板設置在所述彩膜基板的出光側(cè)，并且所述蓋板的平坦層朝向所述彩膜基板。

7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述彩膜基板還包括：

彩膜襯底；

設置于所述彩膜襯底上并覆蓋所述多個光敏器件的鈍化層；以及，

設置于所述鈍化層上的黑矩陣；其中，

至少一所述光敏器件在所述彩膜襯底上的正投影位于所述黑矩陣在所述彩膜襯底的正投影內(nèi)。

8.如權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述光敏器件具有柵極和有源層，其中：

所述柵極的表面具有一金屬層，所述金屬層覆蓋所述柵極的至少一側(cè)邊；

所述有源層的溝道區(qū)在所述柵極上的正投影與所述金屬層的重合度為零。

9.一種蓋板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步驟：

提供第一襯底基板并在所述第一襯底基板制作第一光刻膠層；

利用數(shù)字曝光機對所述第一光刻膠層進行曝光處理以獲得至少一聚光結(jié)構(gòu)；

在所述聚光結(jié)構(gòu)上制作一第二光刻膠層，所述第二光刻膠的折射率小于所述第一光刻膠的折射率；

其中，所述第一光刻膠層具有對應于形成所述聚光結(jié)構(gòu)的預設曝光區(qū)域，則在所述曝光處理過程中：所述數(shù)字曝光機的曝光量從所述預設曝光區(qū)域的中心至所述預設曝光區(qū)域的邊緣逐漸降低。