[發明專利]基站設備、表面清潔系統及烘干處理控制方法有效
| 申請號: | 202110456057.2 | 申請日: | 2021-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN113243845B | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發明(設計)人: | 曹力;唐成;段飛;鐘亮 | 申請(專利權)人: | 北京順造科技有限公司 |
| 主分類號: | A47L11/30 | 分類號: | A47L11/30;A47L11/40;F26B21/00 |
| 代理公司: | 北京庚致知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11807 | 代理人: | 韓德凱;李曉輝 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基站設備 表面 清潔 系統 烘干 處理 控制 方法 | ||
1.一種具有烘干機構的基站設備,其特征在于,包括:
基座,所述基座具有腔體結構,所述基座上形成有基座進氣部及基座出風部;以及
烘干機構,所述烘干機構設置在所述基座的腔體結構之內,所述烘干機構對經由所述基座進氣部進入的氣流進行加熱,并將加熱后的氣流經由所述基座出風部輸出;
其中,所述基座具有基座主殼體及基座上殼體,所述基座主殼體與所述基座上殼體可拆卸地連接;所述基座的一端形成有凸起部,所述基座出風部設置在所述凸起部上;所述凸起部形成在所述基座主殼體上,且所述凸起部上形成主殼體出風部,所述主殼體出風部作為所述基座出風部;
所述具有烘干機構的基站設備還包括托盤部和導風部,所述基座上殼體上形成有容納凹槽,所述托盤部設置在所述基座上殼體的所述容納凹槽之內,所述托盤部上形成有清洗槽;所述導風部對所述主殼體出風部的出風進行導向,將主殼體出風部的出風導向為朝向所述托盤部的清洗槽。
2.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述基座上設置有定位機構,所述定位機構用于對停靠在基座上的清潔設備進行定位。
3.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,相對于水平面,所述基座的上表面具有傾斜角度,所述基座的上表面由所述基座進氣部一側向所述基座出風部一側向下傾斜。
4.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述導風部包括多個導風元件,所述導風元件上形成出風口,所述導風元件的出風口朝向所述清洗槽。
5.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述導風部設置在所述基座主殼體上,或者,所述導風部與所述基座主殼體一體地形成。
6.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述導風部設置在托盤部上,或者,所述導風部與所述托盤部一體地形成。
7.根據權利要求1所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述托盤部與所述基座上殼體通過磁性組件可拆卸地固定連接。
8.根據權利要求7所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述磁性組件包括磁性部及鐵塊,所述磁性部及所述鐵塊分別設置在所述托盤部上和所述基座上殼體上。
9.根據權利要求2所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述定位機構包括主定位部和/或輔助定位部。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述烘干機構具有腔體,所述烘干機構具有烘干機構進風口以及烘干機構出風口,所述烘干機構的腔體中設置有風機裝置及加熱體,所述加熱體對風機裝置產生的氣流進行加熱,加熱后的氣流經由所述烘干機構出風口輸出。
11.根據權利要求10所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述烘干機構包括烘干機構下殼體以及烘干機構上殼體,所述烘干機構下殼體以及烘干機構上殼體共同形成烘干機構的所述腔體結構。
12.根據權利要求10所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述烘干機構還包括氣流分散板,所述氣流分散板對風機裝置產生的氣流進行分散,使得加熱體對分散后的氣流進行充分加熱。
13.根據權利要求12所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述氣流分散板設置在所述風機裝置與加熱體之間。
14.根據權利要求13所述的具有烘干機構的基站設備,其特征在于,所述氣流分散板更臨近風機裝置設置。
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