[發(fā)明專(zhuān)利]一種鈣鈦礦薄膜、鈣鈦礦LED器件及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110455751.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113161452B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張翔暉;沈杰;胡永明;顧豪爽;吳子田 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 湖北大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/00;H01L33/26 |
| 代理公司: | 北京金智普華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11401 | 代理人: | 張文俊 |
| 地址: | 430062 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈣鈦礦 薄膜 led 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種鈣鈦礦LED器件,其特征在于,包括:
襯底;
空穴傳輸層,位于所述襯底的一側(cè)面;
鈣鈦礦薄膜,位于所述空穴傳輸層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面;
電子傳輸層,位于所述鈣鈦礦薄膜遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面;
金屬電極層,位于所述電子傳輸層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面;
其中,所述鈣鈦礦薄膜的制備方法為:將148.8mg溴化銫和171.12mg溴化鉛以及2-氨基-2-(4-溴苯基)乙酸溶于2ml的二甲亞砜(DMSO)溶劑中,于60℃攪拌24h使物料溶解,靜置,得到鈣鈦礦溶液;取30μL的鈣鈦礦溶液以3000rpm的轉(zhuǎn)速旋涂到空穴傳輸層表面,旋涂完成后于70℃下,加熱10min,即得鈣鈦礦薄膜;其中,旋涂時(shí)間為60s,在旋涂過(guò)程中滴加氯苯作為反溶劑,其中氯苯的滴加時(shí)間為旋涂的后30s,滴加氯苯量為200μl;其中,加入的2-氨基-2-(4-溴苯基)乙酸質(zhì)量為溴化銫和溴化鉛質(zhì)量之和的20%。
2.如權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦LED器件,其特征在于,所述空穴傳輸層的材料為氧化鎳;
和/或,所述電子傳輸層的材料為氧化鋅;
和/或,所述金屬電極層的材料為鋁。
3.一種鈣鈦礦LED器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供一襯底;
在所述襯底一側(cè)面制備空穴傳輸層;
在所述空穴傳輸層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面制備鈣鈦礦薄膜;
在所述鈣鈦礦薄膜遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面制備電子傳輸層;
在所述電子傳輸層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)面制備金屬電極層;
其中,所述鈣鈦礦薄膜的制備方法為:將148.8mg溴化銫和171.12mg溴化鉛以及2-氨基-2-(4-溴苯基)乙酸溶于2ml的二甲亞砜(DMSO)溶劑中,于60℃攪拌24h使物料溶解,靜置,得到鈣鈦礦溶液;取30μL的鈣鈦礦溶液以3000rpm的轉(zhuǎn)速旋涂到空穴傳輸層表面,旋涂完成后于70℃下,加熱10min,即得鈣鈦礦薄膜;其中,旋涂時(shí)間為60s,在旋涂過(guò)程中滴加氯苯作為反溶劑,其中氯苯的滴加時(shí)間為旋涂的后30s,滴加氯苯量為200μl;其中,加入的2-氨基-2-(4-溴苯基)乙酸質(zhì)量為溴化銫和溴化鉛質(zhì)量之和的20%。
4.如權(quán)利要求3所述的鈣鈦礦LED器件的制備方法,其特征在于,所述空穴傳輸層的制備方法包括以下步驟:
將乙酸鎳溶解在醇溶劑中,再加入單乙醇胺,攪拌后得到氧化鎳前驅(qū)體;
將氧化鎳前驅(qū)體涂覆在所述襯底上,退火后得到氧化鎳薄膜即為空穴傳輸層。
5.如權(quán)利要求3所述的鈣鈦礦LED器件的制備方法,其特征在于,所述電子傳輸層的制備方法,包括以下步驟:
將氫氧化鉀加入至醇中,攪拌,得到氫氧化鉀醇溶液;
將二水乙酸鋅加入至醇中,攪拌,得到二水乙酸鋅醇溶液;
將氫氧化鉀醇溶液加入至二水乙酸鋅醇溶液中,加熱后過(guò)濾得到沉淀;
將沉淀分散至氯苯中得到氧化鋅氯苯溶液,將氧化鋅氯苯溶液涂覆至鈣鈦礦薄膜表面,退火后得到氧化鋅薄膜即為電子傳輸層。
6.如權(quán)利要求3所述的鈣鈦礦LED器件的制備方法,其特征在于,所述金屬電極層的制備方法為:以鋁絲為蒸發(fā)源以蒸鍍法在電子傳輸層表面制備得到鋁,即為電子傳輸層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件





