[發(fā)明專利]光學(xué)基板曝光區(qū)域的確定方法、布局方法及確定系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110451624.5
• 申請日: 2021-04-26
• 公開（公告）號: CN113066098B
• 公開（公告）日: 2023-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫良峰;崔鑫;任星曉
• 申請（專利權(quán)）人: 上海御微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
• 主分類號: G06T7/187
• 分類號: G06T7/187;G06T7/62;G06T7/70
• 代理公司: 蘇州友佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32351
• 代理人: 陳德霞

本發(fā)明提供了一種光學(xué)基板曝光區(qū)域的確定方法、布局方法及確定系統(tǒng)，該確定方法包括：采集光學(xué)基板的圖像數(shù)據(jù)，以基于光學(xué)基板的圖像數(shù)據(jù)識別光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和光學(xué)基板的外輪廓曲線；改變光學(xué)基板的位置狀態(tài)，以根據(jù)光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和外輪廓曲線確定不同位置狀態(tài)的光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量和/或有效曝光場的面積之和；將目標(biāo)位置狀態(tài)對應(yīng)的光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量最多和/或有效曝光場的面積之和最大時對應(yīng)的所有有效曝光場確定為光學(xué)基板的曝光區(qū)域。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于非標(biāo)基底面型不平坦、局部區(qū)域呈現(xiàn)凹凸不平現(xiàn)象導(dǎo)致非標(biāo)基底的曝光區(qū)域布局的準(zhǔn)確度大幅度降低的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)基板制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)基板曝光區(qū)域的確定方法、布局方法及確定系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有半導(dǎo)體制造的標(biāo)準(zhǔn)晶圓為面型平坦的圓形基底，曝光網(wǎng)格布局以已知大小的方形曝光場為單元網(wǎng)格，將基底分割出多個曝光單元，邊緣的曝光場網(wǎng)格由于不完整使得曝光場所包含的可用器件數(shù)量受網(wǎng)格布局方案的變化而變化。

整個晶圓上最終能曝光出的有用器件數(shù)量是影響產(chǎn)率的重要因素。雖然現(xiàn)有技術(shù)中通過各種智能尋優(yōu)算法主要解決了標(biāo)準(zhǔn)晶圓的曝光場網(wǎng)格最優(yōu)布局的問題，但是由于非標(biāo)基板面型不平坦等缺陷，由此使得標(biāo)準(zhǔn)晶圓曝光場網(wǎng)格布局方式無法適用于非標(biāo)基底的曝光場網(wǎng)格布局中。即對于非標(biāo)基板晶圓而言，其往往由于面型不平坦、局部區(qū)域呈現(xiàn)凹凸不平現(xiàn)象而并不適合生產(chǎn)器件，從而導(dǎo)致對非標(biāo)基板晶圓的曝光區(qū)域布局的準(zhǔn)確度大幅度降低。

有鑒于此，有必要提出一種非標(biāo)基板曝光區(qū)域的確定方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于揭示一種光學(xué)基板曝光區(qū)域的確定方法、布局方法及確定系統(tǒng)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中由于非標(biāo)基底面型不平坦、局部區(qū)域呈現(xiàn)凹凸不平現(xiàn)象導(dǎo)致非標(biāo)基底的曝光區(qū)域布局的準(zhǔn)確度大幅度降低的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的之一，第一方面，本發(fā)明提供了一種光學(xué)基板曝光區(qū)域的確定方法，包括：

采集光學(xué)基板的圖像數(shù)據(jù)，以基于光學(xué)基板的圖像數(shù)據(jù)識別光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和光學(xué)基板的外輪廓曲線；

改變光學(xué)基板的位置狀態(tài)，以根據(jù)光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和外輪廓曲線確定不同位置狀態(tài)的光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量或有效曝光場的面積之和；

將光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量最多或有效曝光場的面積之和最大時對應(yīng)的所有有效曝光場確定為光學(xué)基板的曝光區(qū)域。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，改變光學(xué)基板的位置狀態(tài)，以根據(jù)光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和外輪廓曲線確定不同位置狀態(tài)的光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量，包括：

以不同旋轉(zhuǎn)角度轉(zhuǎn)動光學(xué)基板，以根據(jù)光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和外輪廓曲線確定光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量；

其中，將光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量最多時對應(yīng)的所有有效曝光場確定為光學(xué)基板的曝光區(qū)域，包括：

確定光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量最多時對應(yīng)的目標(biāo)旋轉(zhuǎn)角度，以將光學(xué)基板的與所述目標(biāo)旋轉(zhuǎn)角度對應(yīng)的所有有效曝光場確定為光學(xué)基板的曝光區(qū)域。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，根據(jù)光學(xué)基板的凹凸區(qū)域和外輪廓曲線確定光學(xué)基板中有效曝光場的數(shù)量，包括：

獲取與所述凹凸區(qū)域相交的每一相交曝光場的中心點(diǎn)，并基于每一相交曝光場的中心點(diǎn)以及光學(xué)基板的旋轉(zhuǎn)角度確定對應(yīng)相交曝光場是否有效；

統(tǒng)計不同旋轉(zhuǎn)角度對應(yīng)的有效相交曝光場、所述外輪廓曲線和凹凸區(qū)域邊界曲線圍合形成的區(qū)域所包含的曝光場之間的有效曝光場總數(shù)，以確定有效曝光場總數(shù)最多時對應(yīng)的目標(biāo)旋轉(zhuǎn)角度。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，基于每一相交曝光場的中心點(diǎn)以及光學(xué)基板的旋轉(zhuǎn)角度確定對應(yīng)相交曝光場是否有效，包括：