[發明專利]一種用于光刻機上的真空檢測裝置

在審

• 申請號: 202110451054.X
• 申請日: 2021-04-26
• 公開（公告）號: CN113176715A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 張俊杰
• 申請（專利權）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海海貝律師事務所 31301
• 代理人: 宋振宇

本發明公開了一種用于光刻機上的真空檢測裝置，包括底座，底座上側安裝有上罩體，上罩體內頂部設有滑槽，且滑槽內安裝有Y軸絲桿和Y軸滑塊，且兩個Y軸滑塊之間安裝有橫向支撐板，橫向支撐板下側通過支臂安裝有X軸絲桿和X軸滑塊，X軸滑塊下側安裝有Z軸電動推桿，Z軸電動推桿下側通過安裝座安裝有真空檢測裝置，上罩體內部一側通過第一連接桿安裝有第一定位夾座，上罩體內部另一側通過第二連接桿安裝有第二定位夾座，第二連接桿通過齒輪組傳動連接有第一電機，本發明通過設有的Y軸絲杠、X軸絲杠和Z軸電動推桿，使得便于對真空檢測裝置沿Y軸、X軸和Z軸移動調節處理，從而滿足不同位置的檢測處理，有利于提高檢測的效率。

技術領域

本發明涉及檢測設備技術領域，具體是一種用于光刻機上的真空檢測裝置。

背景技術

光刻機是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大，全世界只有少數幾家公司能制造。真空檢測裝置在光刻機傳片、傳版以及各移動平臺部分具有重要的作用；對掩膜版進行真空檢測時，首先將掩膜版進行限位固定，由于保證對其檢測時的穩定性。

現有技術中申請號為CN202010902638.X的用于光刻機上的真空檢測裝置，包括底座，所述底座上固定連接有兩個支撐板，兩個所述支撐板之間固定連接有安裝板，所述安裝板與底座之間設有可以升降的連接板，所述連接板的兩端均設有可以調節的壓板機構，所述底座上設有滑動槽，所述滑動槽內滑動連接有兩個壓臺，兩個所述壓臺與兩個支撐板之間設有傳動機構，所述連接板的底部設有可以移動的真空檢測裝置，所述壓板機構包括設置在連接板內的安裝槽，所述安裝槽內滑動連接有L型板，所述連接板上貫穿設有與其螺紋連接的定位螺栓。本發明結構合理，可以對不同大小的掩膜版進行限位，便于對其進行真空檢測，實用性較好，也可以對掩膜版進行保護，防止其受損。但是，難以對真空檢測裝置進行全方位的移動調節處理，難以滿足不同位置的檢測處理，而且需手動翻轉調節掩膜版進行檢測處理，降低了檢測的效率。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于光刻機上的真空檢測裝置，以解決現有技術中難以對真空檢測裝置進行全方位的移動調節處理，難以滿足不同位置的檢測處理，而且需手動翻轉調節掩膜版進行檢測處理，降低了檢測的效率的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種用于光刻機上的真空檢測裝置，包括底座，所述底座上側安裝有上罩體，所述上罩體內頂部兩側均開設有滑槽，且滑槽內安裝有Y軸絲桿，所述Y軸絲桿上螺紋安裝有Y軸滑塊，且兩個Y軸滑塊之間安裝有橫向支撐板，所述橫向支撐板下側通過支臂安裝有X軸絲桿，所述X軸絲桿上螺紋安裝有X軸滑塊，所述X軸滑塊下側安裝有Z軸電動推桿，所述Z軸電動推桿下側通過安裝座安裝有真空檢測裝置，所述上罩體內部一側通過第一連接桿安裝有第一定位夾座，所述上罩體內部另一側通過第二連接桿安裝有第二定位夾座，所述第二連接桿通過齒輪組傳動連接有第一電機。

進一步的，所述第一定位夾座和第二定位夾座一側均開設有凹槽，所述凹槽內側安裝有防護墊。

進一步的，所述Y軸絲桿和Y軸滑塊在上罩體頂部的滑槽內平行安裝有兩組，所述Y軸絲桿一端傳動連接有第二電機，且第二電機安裝在上罩體外側。

進一步的，所述第一連接桿和第一定位夾座之間通過第一軸承套圈轉動連接，所述第二連接桿一端通過第二軸承套圈與上罩體內壁轉動連接。

進一步的，所述第二連接桿上安裝有從動齒輪，所述第一電機一端傳動連接有主動齒輪，且主動齒輪和從動齒輪嚙合連接。

進一步的，所述第一連接桿一端傳動連接有氣缸，所述氣缸安裝在上罩體外側。

進一步的，所述X軸絲桿一端傳動連接有第三電機，所述底座一端上側安裝有PLC控制柜，且第一電機和第三電機均與PLC控制柜電性連接。