[發(fā)明專利]一種光學(xué)鍍膜壓入裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110448830.0
• 申請日: 2021-04-25
• 公開（公告）號: CN113355642B
• 公開（公告）日: 2023-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝微;李晨
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇微納光膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 南京禹為知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32272
• 代理人: 王曉東

本發(fā)明提供一種光學(xué)鍍膜壓入裝置，包括，腔室組件，包括由真空罩與底座形成的真空腔室；濺射組件，設(shè)于真空腔室內(nèi)，包括由若干磁控射槍，靶材和偏置磁場；定位組件，包括設(shè)于真空腔室內(nèi)的夾持部件，以及驅(qū)動(dòng)夾持部件調(diào)整方向的調(diào)向部件，夾持部件包括至少兩個(gè)夾持件，夾持件形成夾持區(qū)域，夾持部件與調(diào)向部件連接。本發(fā)明提供的光學(xué)鍍膜壓入裝置，通過在真空腔室中設(shè)置同時(shí)具有夾持和調(diào)向功能的定位組件，實(shí)現(xiàn)了帶鍍膜材料的多方位調(diào)節(jié)，滿足復(fù)雜形狀的鍍膜要求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是，涉及光學(xué)鍍膜壓入裝置。

背景技術(shù)

磁控濺射鍍膜技術(shù)不斷完善和發(fā)展，已經(jīng)在工業(yè)上作為一項(xiàng)非常廣泛應(yīng)用的鍍膜技術(shù)。磁控濺射鍍膜的過程大致分為“電離、轟擊、濺射、成膜”。即工作氣體(Ar氣分子)高壓下電離出Ar+離子，在電磁場作用下轟擊陰極靶材，靶材受到轟擊輝光放電，產(chǎn)生等離子體，到達(dá)襯底基片成膜。

現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備通常將待鍍膜基材固定在偏置磁場中，其位置和方向都固定。但現(xiàn)有的鍍膜基材不可能全部都是平面，針對具有特異形狀的鍍膜基材，需要做到基材的方向和位置有一定程度的調(diào)節(jié)性。

發(fā)明內(nèi)容

本部分的目的在于概述本發(fā)明的實(shí)施例的一些方面以及簡要介紹一些較佳實(shí)施例。在本部分以及本申請的說明書摘要和發(fā)明名稱中可能會(huì)做些簡化或省略以避免使本部分、說明書摘要和發(fā)明名稱的目的模糊，而這種簡化或省略不能用于限制本發(fā)明的范圍。

因此，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)鍍膜方向固定的缺陷，從而提供能提供多種。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種光學(xué)鍍膜壓入裝置，包括，

腔室組件，包括由真空罩與底座形成的真空腔室；

濺射組件，設(shè)于所述真空腔室內(nèi)，包括由若干磁控射槍，靶材和偏置磁場；

定位組件，包括設(shè)于所述真空腔室內(nèi)的夾持部件，以及驅(qū)動(dòng)所述夾持部件調(diào)整方向的調(diào)向部件，所述夾持部件包括至少兩個(gè)夾持件，所述夾持件形成夾持區(qū)域，所述夾持部件與所述調(diào)向部件連接。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述夾持部件設(shè)于所述偏置磁場中央，所述定位組件與所述偏置磁場之間設(shè)有擋板，所述擋板中間留有針對所述夾持區(qū)域的通孔。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述夾持部件包括同步驅(qū)動(dòng)件，所述夾持件活動(dòng)設(shè)置于所述同步驅(qū)動(dòng)件上，所述同步驅(qū)動(dòng)件帶動(dòng)所述夾持件向所述夾持區(qū)域中心靠近或遠(yuǎn)離。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述同步驅(qū)動(dòng)件包括環(huán)形驅(qū)動(dòng)盤，且所述環(huán)形驅(qū)動(dòng)盤上設(shè)有驅(qū)動(dòng)螺紋，所述夾持件通過滑動(dòng)塊設(shè)于所述環(huán)形驅(qū)動(dòng)盤上，所述滑動(dòng)塊上形成有若干與所述驅(qū)動(dòng)螺紋適配的滑槽；所述環(huán)形驅(qū)動(dòng)盤轉(zhuǎn)動(dòng)后，驅(qū)動(dòng)所述滑動(dòng)塊沿徑向直線移動(dòng)。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述夾持件沿著所述環(huán)形驅(qū)動(dòng)盤分布有至少三個(gè)，其中至少一個(gè)所述夾持件上設(shè)有固定卡接器，至少一個(gè)所述夾持件上設(shè)有活動(dòng)卡接器，所述活動(dòng)卡接器通過螺栓轉(zhuǎn)動(dòng)連接在所述夾持件上，所述固定卡接器與所述活動(dòng)卡接器上均設(shè)有卡接口。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述夾持部件還包括導(dǎo)向套，同步驅(qū)動(dòng)件與所述夾持件均設(shè)于所述導(dǎo)向套內(nèi)，所述導(dǎo)向套沿徑向開設(shè)有導(dǎo)向通道，所述滑動(dòng)塊側(cè)壁上設(shè)有與所述導(dǎo)向通道適配的導(dǎo)向體。

作為本發(fā)明所述光學(xué)鍍膜壓入裝置的一種優(yōu)選方案，其中：所述調(diào)向部件包括，

調(diào)向架，固定設(shè)于所述真空腔室內(nèi)；

調(diào)向臂，轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)于所述調(diào)向架上，一端與所述夾持部件連接；

搖擺驅(qū)動(dòng)件，固定連接于所述調(diào)向架上，與所述調(diào)向臂的一端連接，驅(qū)動(dòng)所述調(diào)向臂擺動(dòng)。