[發(fā)明專利]一種基于片上回音壁模式光學(xué)微腔的相干伊辛機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110447214.3 | 申請日: | 2021-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN113178775B | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 文凱;馬寅;王川 | 申請(專利權(quán))人: | 北京玻色量子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/10 | 分類號: | H01S5/10;H01S5/06;H01S5/062 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 張影 |
| 地址: | 100015 北京市朝*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 回音壁 模式 光學(xué) 相干 伊辛機 | ||
1.一種基于片上回音壁模式光學(xué)微腔的相干伊辛機,其特征在于,所述相干伊辛機包括:
激光發(fā)射器,所述激光發(fā)射器用于發(fā)射第一波長的第一脈沖激光;
第一激光處理裝置,所述第一激光處理裝置用于將所述第一脈沖激光轉(zhuǎn)換為第二波長的第二脈沖激光;
光學(xué)微腔,所述光學(xué)微腔具有旋轉(zhuǎn)對稱性結(jié)構(gòu)的諧振腔,用于使光場能夠在所述諧振腔的內(nèi)表面進行全反射;所述光學(xué)微腔中集成有第二激光處理裝置,所述第二激光處理裝置用于將注入到所述光學(xué)微腔中的第二脈沖激光轉(zhuǎn)換為所述第一波長的第三脈沖激光;所述第二激光處理裝置集成在所述光學(xué)微腔中的耦合端;
零差頻測量裝置,所述零差頻測量裝置用于依據(jù)所述第一脈沖激光和所述第三脈沖激光,以獲得所述第三脈沖激光的相位;
反饋裝置,所述反饋裝置用于依據(jù)所述第三脈沖激光的相位,調(diào)節(jié)所述第一脈沖激光的幅度和相位,在設(shè)定時間注入到所述光學(xué)微腔中,以增強所述第三脈沖激光;
第一耦合器,所述第一耦合器用于將所述第二脈沖激光通過所述光學(xué)微腔中集成的上路波導(dǎo)注入到所述光學(xué)微腔中;
其中,所述第一耦合器還用于將被所述反饋裝置處理后的第一脈沖信號通過所述上路波導(dǎo)注入到所述光學(xué)微腔中;
或者,
所述光學(xué)微腔中集成有下路波導(dǎo);被所述反饋裝置處理后的第一脈沖信號通過所述下路波導(dǎo)注入到所述光學(xué)微腔中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干伊辛機,其特征在于,所述反饋裝置包括:強度調(diào)制器、相位調(diào)制器和FPGA裝置;
其中,所述FPGA裝置用于依據(jù)所述零差頻測量裝置的輸出結(jié)果,控制所述強度調(diào)制器和所述相位調(diào)制器的工作狀態(tài),以調(diào)節(jié)所述第一脈沖激光的幅度和相位;
所述強度調(diào)制器用于調(diào)節(jié)所述第一脈沖激光的幅度;
所述相位調(diào)制器用于調(diào)節(jié)所述第一脈沖激光的相位。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干伊辛機,其特征在于,所述相干伊辛機還包括:
第二耦合器,所述第二耦合器用于將所述第一脈沖激光分為兩路脈沖激光;
其中一路脈沖激光輸送至所述第一激光處理裝置;另一路脈沖激光分別輸送至所述反饋裝置和所述零差頻測量裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干伊辛機,其特征在于,所述相干伊辛機還包括:
放大器,所述放大器用于對所述激光發(fā)射器發(fā)出的所述第一脈沖激光進行放大處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相干伊辛機,其特征在于,所述相干伊辛機還包括:第三耦合器、光電轉(zhuǎn)換器以及示波器;
其中,所述第三耦合器用于將所述光學(xué)微腔輸出的所述第三脈沖激光分為兩路脈沖激光;
其中一路脈沖激光輸送至所述零差頻測量裝置;
另一路脈沖激光輸送至所述光電轉(zhuǎn)換器;
所述光電轉(zhuǎn)換器用于對脈沖激光進行光電轉(zhuǎn)換;
所述示波器用于對光電轉(zhuǎn)換后的信號進行監(jiān)測。
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