[發(fā)明專利]發(fā)聲裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110444266.5
• 申請日: 2021-04-23
• 公開（公告）號(hào): CN113194390A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王瑩;郭曉冬
• 申請（專利權(quán)）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號(hào): H04R9/02
• 分類號(hào): H04R9/02;H04R9/06;H04R1/24
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 梁馨怡

本發(fā)明公開一種發(fā)聲裝置，所述發(fā)聲裝置包括高音振動(dòng)系統(tǒng)、低音振動(dòng)系統(tǒng)、磁軛和磁路系統(tǒng)；磁軛包括底壁和自所述底壁向靠近所述高音振動(dòng)系統(tǒng)延伸的側(cè)壁，所述低音振動(dòng)系統(tǒng)和所述高音振動(dòng)系統(tǒng)分設(shè)于所述磁軛的相對兩側(cè)；磁路系統(tǒng)包括設(shè)于所述底壁上的主磁鋼，所述主磁鋼靠近所述高音振動(dòng)系統(tǒng)的一端設(shè)置有避讓臺(tái)階，所述高音振動(dòng)系統(tǒng)的高音音圈插入所述避讓臺(tái)階和所述側(cè)壁圍成的第一磁間隙內(nèi)。本發(fā)明公開的發(fā)聲裝置尺寸小，音頻頻寬寬，有效磁場集中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電聲轉(zhuǎn)換技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種發(fā)聲裝置。

背景技術(shù)

為實(shí)現(xiàn)完美的音響效果，現(xiàn)有的部分電子設(shè)備的揚(yáng)聲器將低音單元和高音單元組合，從而可以充分完美的呈現(xiàn)音頻的低頻部分和高頻部分，充分拓展頻寬。請參閱圖1，現(xiàn)有技術(shù)中，將低音單元和高音單元共用一個(gè)磁路系統(tǒng)，同時(shí)將低音單元和高音單元分設(shè)在磁軛的相對兩側(cè)，為了保證發(fā)聲裝置具有較小的尺寸，需要壓縮磁路系統(tǒng)體積，從而使得磁通量較小，影響發(fā)聲裝置發(fā)聲。

因此，需要提供一種新型的發(fā)聲裝置，解決上述技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的是提供一種發(fā)聲裝置，旨在解決具有高音單元和低音單元的發(fā)聲裝置因?yàn)閴嚎s磁路系統(tǒng)體積，導(dǎo)致磁通量較小的技術(shù)問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供的所述發(fā)聲裝置包括：

高音振動(dòng)系統(tǒng)和低音振動(dòng)系統(tǒng)；

磁軛，包括底壁和自所述底壁向靠近所述高音振動(dòng)系統(tǒng)延伸的側(cè)壁，所述低音振動(dòng)系統(tǒng)和所述高音振動(dòng)系統(tǒng)分設(shè)于所述磁軛的相對兩側(cè)；

磁路系統(tǒng)，包括設(shè)于所述底壁上的主磁鋼，所述主磁鋼靠近所述高音振動(dòng)系統(tǒng)的一端設(shè)置有避讓臺(tái)階，所述高音振動(dòng)系統(tǒng)的高音音圈插入所述避讓臺(tái)階和所述側(cè)壁圍成的第一磁間隙內(nèi)。

可選地，所述主磁鋼包括設(shè)于所述底壁上的第一磁鋼和設(shè)于所述第一磁鋼上的第二磁鋼，沿所述高音音圈的振動(dòng)方向，所述第一磁鋼的橫截面積大于和所述第二磁鋼的橫截面積，所述第二磁鋼與所述側(cè)壁相對的第二側(cè)面、所述第一磁鋼朝向所述高音振動(dòng)系統(tǒng)的頂面、以及所述側(cè)壁圍成所述第一磁間隙。

可選地，所述第一磁鋼包括與所述頂面相對設(shè)置的底面、以及連接所述底面和所述頂面的第一側(cè)面，所述底面與所述底壁連接，所述第一側(cè)面與所述側(cè)壁抵接。

可選地，所述磁軛還包括自所述側(cè)壁向遠(yuǎn)離所述主磁鋼方向延伸的安裝部，所述高音振動(dòng)系統(tǒng)包括固設(shè)于所述安裝部上的高音振膜，所述高音音圈驅(qū)動(dòng)所述高音振膜振動(dòng)發(fā)聲。

可選地，所述高音振膜為平面金屬振膜。

可選地，所述高音振動(dòng)系統(tǒng)還包括設(shè)于所述安裝部上的高音安裝環(huán)，所述高音振膜的邊沿固設(shè)于所述高音安裝環(huán)上。

可選地，所述磁路系統(tǒng)還包括繞所述主磁鋼設(shè)置的副磁鋼，所述副磁鋼和所述主磁鋼分設(shè)于所述側(cè)壁的兩側(cè)，所述低音振動(dòng)系統(tǒng)的低音音圈插入所述副磁鋼和所述側(cè)壁之間圍成的第二磁間隙。

可選地，所述副磁鋼設(shè)于所述安裝部上，所述副磁鋼和所述高音振膜分設(shè)于所述安裝部的相對兩側(cè)。

可選地，所述磁路系統(tǒng)還包括設(shè)于所述副磁鋼上的副華司，所述低音振動(dòng)系統(tǒng)包括設(shè)于所述副華司上的低音振膜，所述低音音圈驅(qū)動(dòng)所述低音振膜振動(dòng)發(fā)聲。

可選地，所述低音振膜和所述磁軛之間形成低音后腔，所述磁軛上開設(shè)有出音孔連通所述低音后腔和外部空間。

在本發(fā)明中，通過在磁路系統(tǒng)兩側(cè)分別設(shè)置高音振動(dòng)系統(tǒng)和低音振動(dòng)系統(tǒng)，從而可以通過一個(gè)發(fā)聲裝置實(shí)現(xiàn)高音振動(dòng)系統(tǒng)輸出高音和低音振動(dòng)系統(tǒng)輸出低音，提高發(fā)聲裝置的發(fā)聲頻寬；通過設(shè)置高音振動(dòng)系統(tǒng)和低音振動(dòng)系統(tǒng)共用同一磁路系統(tǒng)，從而減小了發(fā)聲裝置的尺寸；通過設(shè)置避讓臺(tái)階，從而可以最大程度的提高主磁鋼體積，增加主磁鋼的磁通量，使得有效磁場集中。

附圖說明