[發(fā)明專利]一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110436720.2 | 申請日: | 2021-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN113310968B | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王哲;顧煒倫;侯宗余 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/71 | 分類號: | G01N21/71;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人: | 陳英俊 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 光束 整形 改善 激光 誘導(dǎo) 擊穿 光譜 重復(fù)性 方法 | ||
1.一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于包括以下步驟:
1)由激光器發(fā)出一束脈沖激光,光束能量密度分布為高斯形;
2)使高斯形光束通過光束整形器,將其變?yōu)橹行哪芰棵芏壬缘汀⑼鈬愿叩陌夹喂馐凰霭夹喂馐梢暈樵谄巾斝喂馐闹行奶幮纬梢粋€凹陷,凹形光束的能量密度分布表示為:
y(r)=y(tǒng)f(r)-yc(r) (1)
其中,r表示至光束中心的距離;y(r)、yf(r)和yc(r)分別表示凹形光束、平頂形光束和凹陷至光束中心的距離為r處的能量密度;
3)凹形光束經(jīng)聚焦透鏡聚焦至待測物質(zhì)表面,燒蝕待測物質(zhì),產(chǎn)生等離子體;
4)等離子體發(fā)出的輻射光經(jīng)過光纖探頭采集傳入光譜儀,得到激光誘導(dǎo)擊穿光譜;
5)將激光誘導(dǎo)擊穿光譜傳輸至計算機,對激光誘導(dǎo)擊穿光譜進行分析處理。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,凹陷形狀為半橢球形、倒圓錐形、倒圓臺形或圓柱形。
3.如權(quán)利要求2所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,當(dāng)凹陷形狀為半橢球形、倒圓錐形、倒圓臺形或圓柱形時,凹陷能量密度分布分別用下式表示:
yc4(r)=hc 0≤r≤Rc (5)
上式中,yc1(r)、yc2(r)、yc3(r)和yc4(r)分別表示半橢球形、倒圓錐形、倒圓臺形和圓柱形凹陷至光束中心距離為r處的能量密度;hc為凹陷的深度,Rc為凹陷頂部的半徑,Rcb為倒圓臺形凹陷底部的半徑。
4.如權(quán)利要求2或3所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,以hf和Rf分別表示平頂形光束能量密度分布yf(r)的深度與半徑,應(yīng)滿足hc/hf=0.01~0.5,Rc/Rf=0.01~0.5,0<Rcb<Rc。
5.如權(quán)利要求1所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,所述光束整形器采用衍射型光束整形元件。
6.如權(quán)利要求5所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,所述衍射型光束整形元件包括相息圖相位片、二元光學(xué)元件或空間光調(diào)制器。
7.如權(quán)利要求1所述的一種基于光束整形改善激光誘導(dǎo)擊穿光譜可重復(fù)性的方法,其特征在于,步驟4)中在等離子體產(chǎn)生后0.8μs~2.0μs開始采集輻射光,曝光時間為30μs~2000μs。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





