[發明專利]光學系統線性測量裝置及方法

在審

• 申請號: 202110436259.0
• 申請日: 2021-04-22
• 公開（公告）號: CN113125125A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 馮國進;許寧;馬宇軒
• 申請（專利權）人: 中國計量科學研究院
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓世虹

1.一種光學系統線性測量裝置，其特征在于，包括：

光源，發射出光束；

遮光組件，包括遮光片，所述遮光片圍繞自身以外的轉軸轉動，所述遮光片適于在轉動過程中使所述光束在通過狀態和遮擋狀態之間切換；

在所述通過狀態，所述遮光片不影響所述光束通過；

在所述遮擋狀態，所述遮光片至少部分遮擋所述光束通過。

2.根據權利要求1所述的光學系統線性測量裝置，其特征在于，所述遮光組件包括平行設置于所述光束一側的轉臺以及垂直連接于所述轉臺的所述遮光片，所述轉軸為所述轉臺的轉動中心。

3.根據權利要求2所述的光學系統線性測量裝置，其特征在于，所述光束與所述轉臺的轉動中心相對應。

4.根據權利要求1所述的光學系統線性測量裝置，其特征在于，所述光源與所述遮光組件之間的光束傳輸路徑上設置有光強調節組件。

5.根據權利要求4所述的光學系統線性測量裝置，其特征在于，所述光強調節組件包括沿所述光束傳輸路徑順次設置的第一偏振片和第二偏振片。

6.一種光學系統線性測量方法，其特征在于，包括以下步驟：

依次將遮光片轉動至預定的不同位置處，分別獲取光學系統的讀數；

根據所述讀數以及預定算法計算所述光學系統的線性水平。

7.根據權利要求6所述的光學系統線性測量方法，其特征在于，所述依次將遮光片轉動至預定的不同位置處，分別獲取光學系統的讀數包括：

依次將所述遮光片轉動至平行于光束的第一位置、遮擋部分所述光束的第二位置、遮擋其余部分所述光束的第三位置、與所述第一位置對稱的第四位置、所述第三位置、所述第二位置、所述第一位置以及位于所述第二位置與所述第三位置之間且垂直于所述光束的第五位置；

分別獲取所述光學系統的讀數：S11、S21、S31、S41、S32、S22、S12、S51。

8.根據權利要求7所述的光學系統線性測量方法，其特征在于，所述預定算法為：

其中，I為光學系統的線性水平。

9.根據權利要求7所述的光學系統線性測量方法，其特征在于，所述第二位置與所述第三位置對稱設置。

10.根據權利要求6所述的光學系統線性測量方法，其特征在于，所述依次將遮光片轉動至預定的不同位置處，分別獲取光學系統的讀數之前還包括：

調整光束的入射強度。