[發明專利]基于光學暗場顯微技術的檢測系統和方法

有效

• 申請號: 202110433853.4
• 申請日: 2021-04-22
• 公開（公告）號: CN113125436B
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發明（設計）人: 陳學文;何勇;林樹培
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G01N21/84
• 分類號: G01N21/84;G01N21/88;G01N21/01
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種基于光學暗場顯微技術的檢測系統，其特征在于，包括：

光源組件，用于提供照明光束；

照明光束調控組件，用于調控照明光束的偏振態，使照明光束具有垂直于待測樣品表面的光頻電場偏振分量，并引導照明光束以一定入射角度照射到樣品的被測區域上；所述的入射角度是指照明光束照射到樣品表面時，照明光束行進方向與樣品表面法線的夾角；

探測光束調控組件，收集探測光束，所述的探測光束包括檢測目標散射的信號光、待測樣品表面納米或亞納米尺度起伏散射的雜散光、待測樣品表面特定圖案結構散射的背景光；調控探測光束的偏振態，將探測光束中主導雜散光的偏振分量濾除，并將經濾除后的探測光束引導到信號收集組件；

信號采集組件，用于采集所述經過探測光束調控組件調控后的探測光束，形成與所述被測區域對應的檢測圖像信息。

2.根據權利要求1所述基于光學暗場顯微技術的檢測系統，其特征在于，所述的照明光束調控組件，還具有光束掃描功能，將照明光束照射到樣品不同位置，選擇檢測區域。

3.根據權利要求1所述的基于光學暗場顯微技術的檢測系統，其特征在于，還包括樣品架，所述樣品架用于將樣品保持在樣品位置。

4.根據權利要求1所述基于光學暗場顯微技術的檢測系統，其特征在于，還包括計算機系統，計算機系統用于存儲和處理信號采集組件輸出的檢測圖像信息。

5.根據權利要求4所述基于光學暗場顯微技術的檢測系統，其特征在于，所述計算機系統將樣品表面含有相同特定圖案結構的不同區域對應的檢測圖像相減，消除樣品表面特定圖案結構對檢測信號的影響。

6.一種基于權利要求1所述基于光學暗場顯微技術的檢測系統的檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：

將照明光束調控為具有特定偏振態，并引導照明光束以一定入射角度照射到樣品的被測區域上，所述特定偏振態是指照明光束照射到樣品時，照明光束具有垂直于樣品表面的偏振分量；所述的入射角度是指照明光束照射到樣品表面時，照明光束行進方向與樣品表面法線的夾角；

收集探測光束，所述探測光束包括樣品表面納米級或亞納米級起伏散射的雜散光、檢測目標散射的信號光以及樣品特定圖案結構散射的背景光；

調控探測光束的偏振態，濾除探測光束中特定方向的偏振分量，該偏振分量對應樣品表面納米級或亞納米級起伏散射的雜散光的主導偏振分量；

采集經濾除處理的所述探測光束，生成與所述被測區域對應的檢測圖像信息。

7.根據權利要求6所述的基于光學暗場顯微技術的檢測方法，其特征在于，采用計算機系統存儲和處理檢測圖像。

8.根據權利要求7所述的基于光學暗場顯微技術的檢測方法，其特征在于，所述的計算機系統將樣品表面含有相同特定圖案結構的不同區域對應的檢測圖像相減，消除樣品表面特定圖案結構對檢測目標信號的影響。