[發(fā)明專利]窗覆蓋膜及包括該窗覆蓋膜的柔性顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110433095.6 | 申請日: | 2021-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN113549240A | 公開(公告)日: | 2021-10-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 金惠真;高秉瑄;樸珉相 | 申請(專利權(quán))人: | SK新技術(shù)株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社 |
| 主分類號: | C08J7/06 | 分類號: | C08J7/06;C08J7/046;C08J7/043;C08L79/08 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 蔣洪之;孫永梅 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 覆蓋 包括 柔性 顯示 面板 | ||
1.一種窗覆蓋膜,其特征在于,所述窗覆蓋膜包括聚酰亞胺基膜、形成在至少一面的無機薄膜層和硬涂層,并且在388nm下測量的透光率為50%以下,在400-700nm下測量的全光線透光率為87%以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜的透濕率為5.0×10-1g/m2/天以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜的霧度為1.0%以下,黃色指數(shù)為3.0以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜的在浸入甲基乙基酮中的狀態(tài)下儲存0.5小時后測量的霧度變化率為10%以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜在60℃的腔室溫度下用340nm的光源以0.63W/m2的強度以8小時/循環(huán)連續(xù)照射12次后測量的黃色指數(shù)變化量為2以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述無機薄膜層是選自金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮化物、金屬硫化物中的任一種或兩種以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述無機薄膜層是選自氧化鋁、氧化硅、氧化鈦和氧化鋅中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述無機薄膜層通過原子層沉積法(ALD)形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜中依次層疊有聚酰亞胺基膜、形成在所述聚酰亞胺基膜的至少一面的無機薄膜層和硬涂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的窗覆蓋膜,其中,所述無機薄膜層形成在所述聚酰亞胺基膜的全部6個面。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜中依次層疊有聚酰亞胺基膜、硬涂層和無機薄膜層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的窗覆蓋膜,其中,所述無機薄膜層形成在所述硬涂層的上部和聚酰亞胺基膜的全部側(cè)面。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述窗覆蓋膜還包括選自防靜電層、防指紋層、防污層、防刮擦層、低折射層、防反射層和沖擊吸收層中的任一種以上的功能性涂層。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D882的斷裂伸長率為8%以上,模量為6GPa以上。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D1746在388nm下測量的透光率為5%以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為87%以上,霧度為2.0%以下,黃色指數(shù)為5.0以下,并且b*值為2.0以下。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜包含聚酰胺酰亞胺結(jié)構(gòu)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的單元、衍生自芳香族二酐的單元和衍生自芳香族二酰氯的單元。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜還包含衍生自脂環(huán)族二酐的單元。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窗覆蓋膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的厚度為10-500μm,所述無機薄膜層的厚度為2-500nm,所述硬涂層的厚度為1-50μm。
20.一種柔性顯示面板,其包括權(quán)利要求1至19中任一項所述的窗覆蓋膜。
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