[發明專利]考慮熒光成像區域的熒光染色薄膜厚度測量標定方法

有效

• 申請號: 202110431109.0
• 申請日: 2021-04-21
• 公開（公告）號: CN113125401B
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發明（設計）人: 王文中;陳虹百;梁鶴;趙自強
• 申請（專利權）人: 北京理工大學
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01B11/06;G06F17/12
• 代理公司: 北京理工大學專利中心 11120
• 代理人: 代麗;郭德忠

1.一種考慮熒光成像區域的熒光染色薄膜厚度測量標定方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1:給定需要考慮的熒光成像區域的階數N；

步驟S2:拍攝不同標準厚度薄膜的熒光照片，總數為K，要求K＝N+1；

步驟S3:對某一像素單元，建立初始的薄膜厚度與熒光強度之間的關系式：

簡化相同熒光成像區域階次項之和，得到所述薄膜厚度與熒光強度之間的關系式：

其中，i、j分別為像素單元所在行和列的編號；n為熒光成像區域階次編號；N為熒光成像區域的總階數；k為圖片編號，k＝1.2.3…K；K為圖片總數，要求K＝N+1；為第k張圖片的第i行、第j列像素單元對應的薄膜厚度；為第k張圖片的第i行、第j列像素單元對應的n階像素單元的熒光強度之和；為第i行、第j列像素單元對應的n階標定系數；

據此構建標定系數線性方程組：

步驟S4:求解標定系數線性方程組，得到標定系數數組；

步驟S5:對所有像素單元執行步驟S3-步驟S4，得到標定系數表；

步驟S6:使用同一光學系統，拍攝待測薄膜的熒光照片；拍攝薄膜的熒光照片時要對焦到薄膜基準面；

步驟S7:使用步驟S5得到的標定系數表，根據薄膜厚度與熒光強度之間的關系式，計算每一像素單元對應的薄膜厚度，完成標定；薄膜厚度與熒光強度之間的關系式如下：

其中，為待測圖片的第i行、第j列像素單元對應的n階像素單元的熒光強度之和，_hi,j為待測圖片的第i行、第j列像素單元對應的薄膜厚度。