[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110429056.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113219695B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王立苗;張建英;趙聰聰;康報(bào)虹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 邢濤 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道石龍社區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 彩膜基板 及其 制作方法 顯示 面板 | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板,所述彩膜基板的制作方法包括步驟:在襯底的非顯示區(qū)形成環(huán)繞顯示區(qū)且由絕緣材料構(gòu)成的隔斷結(jié)構(gòu);在襯底的非顯示區(qū)形成被所述隔斷結(jié)構(gòu)切斷或減薄的第一黑矩陣層,同時(shí)在襯底的顯示區(qū)形成第二黑矩陣層;在襯底的顯示區(qū)形成與所述第二黑矩陣層間隔設(shè)置的色阻層;在所述第一黑矩陣、第二黑矩陣和色阻層上形成支撐柱、平坦層和公共電極層。本申請(qǐng)?jiān)谛纬煞秋@示區(qū)的黑矩陣層之前,先在襯底上形成由絕緣材料構(gòu)成的隔斷結(jié)構(gòu),當(dāng)黑矩陣層沉積在隔斷結(jié)構(gòu)上時(shí),會(huì)被隔斷結(jié)構(gòu)切斷或者減薄,同樣達(dá)到了防靜電的效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,人們對(duì)顯示裝置的顯示品質(zhì)的追求原來(lái)越高,其中,窄邊框甚至于無(wú)邊框顯示屏幕已成為顯示屏幕設(shè)計(jì)的亮點(diǎn)之一。在顯示裝置的制造過(guò)程中,通常是將陣列基板事先獨(dú)立制造,再將陣列基板和彩膜基板進(jìn)行對(duì)盒,形成液晶盒。其中,彩膜基板上位于顯示區(qū)中的黑矩陣層與陣列基板上的數(shù)據(jù)線、掃描線、薄膜晶體管等部件的位置相對(duì)應(yīng),以遮擋住數(shù)據(jù)線、掃描線、薄膜晶體管等部件;彩膜基板上位于非顯示區(qū)中的黑矩陣層與外圍金屬信號(hào)線對(duì)應(yīng),以遮擋外圍金屬信號(hào)線,并防止漏光。
為了避免非顯示區(qū)中的黑矩陣層由于暴露在環(huán)境中,使靜電通過(guò)黑矩陣層導(dǎo)入到液晶盒內(nèi),造成液晶偏轉(zhuǎn)異常而導(dǎo)致的顯示不良。通常會(huì)在黑矩陣的周邊進(jìn)行開(kāi)槽,將黑矩陣的邊緣和內(nèi)部斷開(kāi),以切斷靜電的導(dǎo)入路徑,防止靜電進(jìn)入液晶盒內(nèi)。但是,這種黑矩陣的開(kāi)槽設(shè)計(jì)容易造成漏光,影響顯示效果。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)的目的是提供一種防漏光和防靜電的彩膜基板及其制作方法和顯示面板。
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種彩膜基板的制作方法,包括步驟:
在襯底的非顯示區(qū)形成環(huán)繞顯示區(qū)的隔斷結(jié)構(gòu);
在襯底的非顯示區(qū)形成被所述隔斷結(jié)構(gòu)切斷或減薄的第一黑矩陣層,同時(shí)在襯底的顯示區(qū)形成第二黑矩陣層;
在襯底的顯示區(qū)形成與所述第二黑矩陣層間隔設(shè)置的色阻層;以及
在所述第一黑矩陣、第二黑矩陣和色阻層上形成支撐柱、平坦層和公共電極層;
其中,所述隔斷結(jié)構(gòu)由絕緣材料構(gòu)成。
本申請(qǐng)還公開(kāi)了一種由上述制作方法所制作出的彩膜基板,包括襯底、隔斷結(jié)構(gòu)和黑矩陣層,所述襯底包括顯示區(qū)和非顯示區(qū),所述非顯示區(qū)環(huán)繞所述顯示區(qū)設(shè)置;所述隔斷結(jié)構(gòu)由絕緣材料構(gòu)成,設(shè)置在所述襯底的非顯示區(qū),且環(huán)繞所述顯示區(qū)設(shè)置;所述黑矩陣層包括設(shè)置在所述非顯示區(qū)中的第一黑矩陣層,和設(shè)置在所述顯示區(qū)中的第二黑矩陣層,所述第一黑矩陣層覆蓋所述隔斷結(jié)構(gòu);所述隔斷結(jié)構(gòu)將所述第一黑矩陣層切斷或減薄。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)靠近襯底一面的寬度,大于遠(yuǎn)離襯底一面的寬度。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)中至少一個(gè)側(cè)面與靠近襯底一面之間的夾角為45°-75°。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)的高度不小于兩倍所述第一黑矩陣層的厚度。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述襯底一面的寬度為5-10um,與襯底相貼一面的寬度為15-20um。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)的截面為三角形,三角形的底部設(shè)置在所述襯底上。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)與所述襯底邊緣之間的距離為30-300um。
可選的,所述隔斷結(jié)構(gòu)不少于兩個(gè),所述彩膜基板包括框膠涂布區(qū),所述框膠涂布區(qū)用于涂布框膠;
所述隔斷結(jié)構(gòu)不少于兩個(gè),兩個(gè)所述隔斷結(jié)構(gòu)中的其中一個(gè)所述隔斷結(jié)構(gòu)設(shè)置在框膠涂布區(qū)與襯底邊緣之間,另一個(gè)所述隔斷結(jié)構(gòu)設(shè)置在框膠涂布區(qū)與顯示區(qū)之間。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





