[發(fā)明專利]一種自動(dòng)檢測(cè)裝置以及自動(dòng)檢測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110427999.8
• 申請(qǐng)日: 2021-04-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112986267B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余太平;胡彥潮;許朋飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市羅博威視科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88;G01N21/956;G01N35/00
• 代理公司: 深圳市君勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268
• 代理人: 溫宏梅

1.一種自動(dòng)檢測(cè)方法，其特征在于，應(yīng)用于自動(dòng)檢測(cè)裝置，所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括：

架體；

滑軌，所述滑軌設(shè)于所述架體的上方并與所述架體連接；

載物臺(tái)，所述載物臺(tái)設(shè)于所述滑軌的上方并與所述滑軌滑動(dòng)連接，所述載物臺(tái)用于放置被檢測(cè)的納米晶導(dǎo)磁片，所述納米晶導(dǎo)磁片上的膜層包括多個(gè)待檢測(cè)區(qū)域，所述待檢測(cè)區(qū)域?yàn)槎S碼區(qū)域、納米晶區(qū)域、藍(lán)膜區(qū)域、石墨區(qū)域或者銅箔區(qū)域；

沿所述滑軌來(lái)料方向依次設(shè)置的第一光學(xué)檢測(cè)工位、第二光學(xué)檢測(cè)工位、第三光學(xué)檢測(cè)工位、第四光學(xué)檢測(cè)工位、第五光學(xué)檢測(cè)工位以及第六光學(xué)檢測(cè)工位，可對(duì)滑軌上依次輸送來(lái)的納米晶導(dǎo)磁片上的膜層的至少一個(gè)所述待檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，且每個(gè)光學(xué)檢測(cè)工位的位置可相對(duì)其檢測(cè)的所述待檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行調(diào)整；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第一光學(xué)檢測(cè)工位，所述第一光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述藍(lán)膜區(qū)域和/或所述二維碼區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第一光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第一支架，所述第一支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第一拍攝設(shè)備，所述第一拍攝設(shè)備設(shè)于所述第一支架上并與所述第一支架連接，且所述第一拍攝設(shè)備可相對(duì)所述第一支架移動(dòng)，所述第一拍攝設(shè)備包括第一相機(jī)，所述第一相機(jī)為面陣相機(jī)；

第一光源，所述第一光源設(shè)于所述第一拍攝設(shè)備的下方，且所述第一光源和所述第一拍攝設(shè)備位于同一軸線并與所述滑軌垂直，所述第一光源為白環(huán)光；

第一光源支架，所述第一光源支架設(shè)于所述第一支架上并與所述第一支架連接，所述第一光源設(shè)于所述第一光源支架上，且所述第一光源支架用于調(diào)節(jié)第一光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第二光學(xué)檢測(cè)工位，所述第二光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述納米晶區(qū)域和/或所述銅箔區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第二光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第二支架，所述第二支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第二拍攝設(shè)備，所述第二拍攝設(shè)備設(shè)于所述第二支架上并與所述第二支架連接，且所述第二拍攝設(shè)備可相對(duì)所述第二支架轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二拍攝設(shè)備與所述滑軌形成第一夾角，所述第一夾角的范圍值為50°~70°，所述第二拍攝設(shè)備包括第二相機(jī)，所述第二相機(jī)為線陣相機(jī)；

第二光源，所述第二光源為白條光；

第二光源支架，所述第二光源支架設(shè)于架體上并與所述架體連接，所述第二光源設(shè)于第二光源支架上，且所述第二光源支架用于調(diào)節(jié)第二光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第三光學(xué)檢測(cè)工位，所述第三光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述石墨區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第三光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第三支架，所述第三支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第三拍攝設(shè)備，所述第三拍攝設(shè)備設(shè)于所述第三支架上并與所述第三支架連接，且所述第三拍攝設(shè)備可相對(duì)所述第三支架轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第三拍攝設(shè)備與所述滑軌形成第二夾角，所述第二夾角的范圍值為70°~90°，所述第三拍攝設(shè)備包括第三相機(jī)，所述第三相機(jī)為線陣相機(jī)；

第三光源，所述第三光源為白條光；

第三光源支架，所述第三光源支架設(shè)于架體上并與所述架體連接，所述第三光源設(shè)于第三光源支架上，且所述第三光源支架用于調(diào)節(jié)第三光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第四光學(xué)檢測(cè)工位，所述第四光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述納米晶區(qū)域和/或所述石墨區(qū)域和/或所述銅箔區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第四光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第四支架，所述第四支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第四拍攝設(shè)備，所述第四拍攝設(shè)備設(shè)于所述第四支架上并與所述第四支架連接，且所述第四拍攝設(shè)備可相對(duì)所述第四支架移動(dòng)，所述第四拍攝設(shè)備包括第四相機(jī)，所述第四相機(jī)為面陣相機(jī)；

第四光源，所述第四光源設(shè)于所述第四拍攝設(shè)備的下方，且所述第四光源和所述第四拍攝設(shè)備位于同一軸線并與所述滑軌垂直，所述第四光源為藍(lán)環(huán)光；

第四光源支架，所述第四光源支架設(shè)于所述第四支架上并與所述第四支架連接，所述第四光源設(shè)于所述第四光源支架上，且所述第四光源支架用于調(diào)節(jié)第四光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第五光學(xué)檢測(cè)工位，所述第五光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述納米晶區(qū)域和/或所述石墨區(qū)域和/或所述藍(lán)膜區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第五光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第五支架，所述第五支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第五拍攝設(shè)備，所述第五拍攝設(shè)備設(shè)于所述第五支架上并與所述第五支架連接，且所述第五拍攝設(shè)備可相對(duì)所述第五支架移動(dòng)，所述第五拍攝設(shè)備包括第五相機(jī)，所述第五相機(jī)為面陣相機(jī)；

第五光源，所述第五光源設(shè)于所述第五拍攝設(shè)備的下方，所述第五光源和所述第五拍攝設(shè)備位于同一軸線并與所述滑軌垂直，所述第五光源為白同軸光；

第五光源支架，所述第五光源支架設(shè)于所述第五支架上并與所述第五支架連接，所述第五光源設(shè)于所述第五光源支架上，且所述第五光源支架用于調(diào)節(jié)第五光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)裝置包括第六光學(xué)檢測(cè)工位，所述第六光學(xué)檢測(cè)工位用于對(duì)所述納米晶區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)，所述第六光學(xué)檢測(cè)工位包括：

第六支架，所述第六支架設(shè)于所述架體上并與所述架體連接；

第六拍攝設(shè)備，所述第六拍攝設(shè)備設(shè)于所述第六支架上并與所述第六支架連接，且所述第六拍攝設(shè)備可相對(duì)第六支架移動(dòng)，所述第六拍攝設(shè)備包括第六相機(jī)，所述第六相機(jī)為面陣相機(jī)；

第六光源，所述第六光源為紅條光；

第六光源支架，所述第六光源支架設(shè)于所述第六支架上并與所述第六支架連接，所述第六光源設(shè)于所述第六光源支架上，且所述第六光源支架用于調(diào)節(jié)第六光源的位置；

所述自動(dòng)檢測(cè)方法包括：

通過(guò)所述第一光學(xué)檢測(cè)工位的第一拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的藍(lán)膜區(qū)域和/或二維碼區(qū)域的圖像，以確認(rèn)藍(lán)膜區(qū)域是否存在藍(lán)膜偏位，和/或二維碼區(qū)域是否存在不良缺陷，所述不良缺陷包括二維碼變形、斷碼；

通過(guò)所述第二光學(xué)檢測(cè)工位的第二拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的納米晶區(qū)域和/或銅箔區(qū)域的圖像，以確認(rèn)納米晶區(qū)域是否存在鼓包、成品壓傷、碎裂，和/或銅箔區(qū)域是否存在銅箔壓印；

通過(guò)所述第三光學(xué)檢測(cè)工位的第三拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的石墨區(qū)域的圖像，以確認(rèn)石墨區(qū)域是否存在石墨壓痕、石墨分層；

通過(guò)所述第四光學(xué)檢測(cè)工位的第四拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的納米晶區(qū)域和/或石墨區(qū)域和/或銅箔區(qū)域的圖像，以確認(rèn)納米晶區(qū)域是否存在納米晶膠皺、異物，和/或石墨區(qū)域是否存在缺石墨、石墨皺，和/或銅箔區(qū)域是否存在銅箔膠皺；

通過(guò)所述第五光學(xué)檢測(cè)工位的第五拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的納米晶區(qū)域和/或石墨區(qū)域和/或藍(lán)膜區(qū)域的圖像，以確認(rèn)納米晶區(qū)域是否存在納米晶包邊褶皺、裂紋，和/或石墨區(qū)域是否存在石墨包邊皺，和/或藍(lán)膜區(qū)域是否存在藍(lán)膜褶皺；

通過(guò)所述第六光學(xué)檢測(cè)工位的第六拍攝設(shè)備采集所述納米晶導(dǎo)磁片的納米晶區(qū)域的圖像，以確認(rèn)納米晶區(qū)域是否存在漏銅。