[發(fā)明專利]一種基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110425226.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113270341B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊冠南;林偉;吳松;崔成強(qiáng);張昱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/683;H01L33/48 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 王錦霞 |
| 地址: | 510090 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 滾筒 芯片 擴(kuò)張 巨量 轉(zhuǎn)移 方法 | ||
1.一種基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,包括以下步驟:
S10.選擇柔性拉伸膜(1),所述柔性拉伸膜(1)包括自上而下順次設(shè)置的保護(hù)膜層(11)、臨時(shí)鍵合膠層(12)以及薄膜拉伸層(13),撕開(kāi)保護(hù)膜層(11),將芯片(2)轉(zhuǎn)移到臨時(shí)鍵合膠層(12);其中,柔性拉伸膜(1)平面為XY平面;
S20.沿X方向拉伸柔性拉伸膜(1),直至X方向芯片(2)間距擴(kuò)張至設(shè)定值;沿Y方向拉伸柔性拉伸膜(1),直至Y方向芯片(2)間距擴(kuò)張至設(shè)定值;
S30.激光照射臨時(shí)鍵合膠層(12),被照射處的臨時(shí)鍵合膠失效,芯片(2)脫離臨時(shí)鍵合膠層(12)并轉(zhuǎn)移至承載基板(10),完成單種類型芯片(2)的巨量轉(zhuǎn)移;
S40.重復(fù)步驟S10~S30,依次完成多種類型芯片(2)的巨量轉(zhuǎn)移;
其中,步驟S20中,X方向、Y方向至少一個(gè)方向上,柔性拉伸膜(1)的拉伸擴(kuò)張通過(guò)將柔性拉伸膜(1)的兩端分別纏繞于第一滾筒(3)、第二滾筒(4)上及控制第一滾筒(3)與第二滾筒(4)之間的轉(zhuǎn)速比或控制第一滾筒(3)與第二滾筒(4)之間的距離實(shí)現(xiàn);控制第一滾筒(3)與第二滾筒(4)之間的轉(zhuǎn)速比時(shí),第一滾筒(3)為普通滾筒,第二滾筒(4)為可擴(kuò)張滾筒,進(jìn)行X方向和Y方向擴(kuò)張時(shí):調(diào)整第一滾筒(3)和第二滾筒(4)轉(zhuǎn)向至朝同一方向轉(zhuǎn)動(dòng),使得柔性拉伸膜(1)纏繞上第二滾筒(4);同時(shí),調(diào)節(jié)第二滾筒(4)的轉(zhuǎn)速使得第二滾筒(4)外徑線速度高于第一滾筒(3)的外徑線速度,柔性拉伸膜(1)受到拉伸;當(dāng)柔性拉伸膜(1)全部繞上第二滾筒(4)后,擴(kuò)張第二滾筒(4)內(nèi)徑至設(shè)定大小;
步驟S20在進(jìn)行拉伸擴(kuò)張的過(guò)程中,對(duì)芯片(2)間距進(jìn)行實(shí)時(shí)同步檢測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟S10中,所述臨時(shí)鍵合膠層(12)選自聚烴基丙烯酸酯類、聚苯基乙烯類、聚酯類或者丙烯酸類熱塑型樹(shù)脂中的一種或數(shù)種,所述薄膜拉伸層(13)的材料選自PI、PE、PET、PEN、PVC、BOPP或BOPS的一種或數(shù)種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟S10中,對(duì)柔性拉伸膜(1)底面進(jìn)行防膠粘處理,使其與臨時(shí)鍵合膠層(12)不會(huì)發(fā)生粘合;所述防膠粘處理方法為涂覆不粘層,所述不粘層選自聚四氟乙烯、氟化乙烯丙烯共聚物、過(guò)氟烷基化物、硅膠油中的一種或數(shù)種的組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟S20中,柔性拉伸膜(1)為長(zhǎng)帶狀,寬度小,Y方向可放置一個(gè)或數(shù)個(gè)芯片(2),長(zhǎng)度長(zhǎng),X方向可陣列放置大量芯片(2);Y方向拉伸柔性拉伸膜(1),直至Y方向芯片(2)間距擴(kuò)張至設(shè)定值;后將薄膜拉伸層(13)沿X方向分為多段,每一段薄膜拉伸層(13)的兩端分別繞于第一滾筒(3)和第二滾筒(4),薄膜拉伸層(13)位于外圈,控制第一滾筒(3)與第二滾筒(4)之間的轉(zhuǎn)速比或控制第一滾筒(3)與第二滾筒(4)之間的距離,拉伸外圈的薄膜拉伸層(13)至X方向芯片(2)間距至設(shè)定值;第一滾筒(3)或第二滾筒(4)將拉伸擴(kuò)張好的薄膜拉伸層(13)收集,并處理下一段柔性拉伸膜(1)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,當(dāng)檢測(cè)到X方向上芯片(2)間距不均勻時(shí),按以下步驟對(duì)芯片(2)間距進(jìn)行補(bǔ)償:轉(zhuǎn)動(dòng)第一滾筒(3)、第二滾筒(4)至芯片(2)距離異常區(qū)域的兩端,增加第一滾筒(3)、第二滾筒(4)之間的距離直至芯片(2)距離達(dá)到設(shè)定值。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于滾筒的芯片擴(kuò)張及巨量轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,當(dāng)檢測(cè)到X方向上芯片(2)間距不均勻時(shí),按以下步驟對(duì)芯片(2)間距進(jìn)行補(bǔ)償:在芯片(2)距離異常區(qū)域的兩端分別設(shè)置第一調(diào)節(jié)滾筒組(7)和第二調(diào)節(jié)滾筒組(8),第一調(diào)節(jié)滾筒組(7)和第二調(diào)節(jié)滾筒組(8)壓緊芯片(2)距離異常區(qū)域的兩端,調(diào)節(jié)第一調(diào)節(jié)滾筒組(7)和第二調(diào)節(jié)滾筒組(8)之間的距離或調(diào)整第一調(diào)節(jié)滾筒組(7)和第二調(diào)節(jié)滾筒組(8)的轉(zhuǎn)速差,拉伸擴(kuò)張芯片(2)距離至設(shè)定值。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





