[發明專利]光學層疊體及包括該光學層疊體的柔性顯示面板

在審

• 申請號: 202110421488.5
• 申請日: 2021-04-20
• 公開（公告）號: CN113534305A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 安鐘南
• 申請（專利權）人: SK新技術株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;G02F1/1337;G09F9/30
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 安玉;太香花

1.一種光學層疊體，其包括：聚酰亞胺基膜，形成在所述聚酰亞胺基膜的一面上的自修復性阻隔粘著層，形成在所述聚酰亞胺基膜的背面上的硅氧化物沉積層。

2.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，在所述硅氧化物沉積層上還包括硬涂層。

3.根據權利要求2所述的光學層疊體，其中，在所述硬涂層上還包括選自防靜電層、防指紋層、防污層、防刮擦層、低折射層、防反射層和沖擊吸收層中的任一種以上的功能性涂層。

4.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述光學層疊體的透濕率為1×10^-3g/m²·天以下。

5.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述光學層疊體的全光線透光率為90％以上，霧度為1％以下，黃色指數為3以下。

6.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述光學層疊體的鉛筆硬度為3B以上，維氏硬度為30HV以上。

7.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述硅氧化物沉積層通過選自化學氣相沉積(CVD)、原子層沉積(ALD)、脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸鍍法、熱蒸鍍法和激光分子束外延(L-MBE)的方法形成。

8.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述硅氧化物沉積層由SiO₂形成。

9.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述自修復性阻隔粘著層對玻璃的粘著力為0.5kgf/英寸以上。

10.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述自修復性阻隔粘著層由包含聚丁二烯結構的固化性樹脂形成。

11.根據權利要求10所述的光學層疊體，其中，所述聚丁二烯結構是衍生自聚丁二烯改性的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯的結構。

12.根據權利要求10所述的光學層疊體，其中，所述自修復性阻隔粘著層還包含衍生自包含脂環的丙烯酸酯的結構。

13.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據ASTM D882的斷裂伸長率為8％以上，模量為6GPa以上。

14.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據ASTM D1746在388nm下測量的透光率為5％以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為87％以上，霧度為2.0％以下，黃色指數為5.0以下，并且b*值為2.0以下。

15.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜包含聚酰胺酰亞胺結構。

16.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的單元、衍生自芳香族二酐的單元和衍生自芳香族二酰氯的單元。

17.根據權利要求16所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜還包含衍生自脂環族二酐的單元。

18.根據權利要求1所述的光學層疊體，其中，所述聚酰亞胺基膜的厚度為10-500μm，所述自修復性阻隔粘著層的厚度為10-100μm，所述硅氧化物沉積層的厚度為2-500nm。

19.根據權利要求2所述的光學層疊體，其中，所述硬涂層的厚度為1-50μm。

20.根據權利要求2所述的光學層疊體，其中，所述硬涂層的鉛筆硬度為3H以上。