[發明專利]一種新式高端全景面罩模具及其控制方法

在審

• 申請號: 202110415145.8
• 申請日: 2021-04-17
• 公開（公告）號: CN112936823A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發明（設計）人: 吳國強
• 申請（專利權）人: 漳州市澳捷光學科技有限公司
• 主分類號: B29C51/08
• 分類號: B29C51/08;B29C51/30;B29C51/46;B29C33/30;B29L31/48
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種新式高端全景面罩模具控制方法，其特征在于，所述新式高端全景面罩模具控制方法包括：

母模具與公模具通過定位柱與定位孔相互拼接，母模上插頭與公模具上凹槽對應插接；

全景面罩與模具通過定位鈕和定位卡扣連接，壓膜時，面罩上的定位鈕和定位卡扣將面罩固定在工作臺上。

2.如權利要求1所述的新式高端全景面罩模具控制方法，其特征在于，所述母模具與公模具通過定位柱與定位孔相互拼接中的定位方法包括：

（1）根據定位可能存在的定位運動軌跡構建相應的字典矩陣；

（2）根據觀測的回波信號，在字典矩陣中提取感興趣的目標分量并對其瞬時頻率進行估計，獲得準確定位信息。

3.如權利要求2所述的新式高端全景面罩模具控制方法，其特征在于，所述步驟（1）具體包括：

1）公模具搭載的處理器接收回波解調后的信號表示為：

；

其中，A_i為第i個信號的幅度，R_i(t)是第i個目標離公模具搭載的處理器的距離，f是載波頻率，c是光速，f_i是第i個信號回波初始相位；

2）觀測矩陣設置如下：

室內定位范圍為M×M的面積，M=m×Dm，每隔Dm均勻取點，共m²個點，構建觀測矩陣：

；

其中，表示第i個位置點在j時刻的采樣值；由此可知，雷達接收回波解調后的信號可表示為樣本信號的一個組合函數：

；

其中，表示第i個位置采樣值的待估系數；化簡上式為，通過求解矩陣B分離回波分量并估計各分量的瞬時頻率參數。

4.如權利要求2所述的新式高端全景面罩模具控制方法，其特征在于，所述步驟（2）在最小化殘差平方和RSS的計算中加入一個L1范數作為約束項：

；

其中是估計結果，,是一個可調參數；當充分大時可以把大部分待估系數收縮到0，達到對頻率特征的準確提取與估計。

5.如權利要求4所述的新式高端全景面罩模具控制方法，其特征在于，其特征在于，所述步驟（2）進一步包括：

第一步，對的格點值進行交叉驗證，選取交叉驗證誤差最小的作為調整參數；

第二步，先將S矩陣進行中心化，X矩陣進行中心標準化；設初始估計模型參數，那么當前的回波殘差就是S；找出中絕對值最大的那個變量所對應的系數，加入中，此時回波殘差為，其中，是當前殘差和所有變量的相關系數；

第三步，將從0開始慢慢變大，直到中出現另一個變量對應的相關系數等于第二步中的相關系數，將對應的加入中；

第四步，重復第三步，直到下一個滿足與當前殘差相關系數絕對值最大的變量出現，如此繼續下去，提取并分離相應頻率。

6.一種新式高端全景面罩模具，其特征在于，所述新式高端全景面罩模具設置有：

通過定位鈕和定位卡扣固定全景面罩的公模具；

用以對全景面罩擠壓的母模具；

所述母模具與公模具扣合固定；

所述母模具上設置有定位孔、插頭、定位鈕槽和工作臺凹面。

7.如權利要求6所述新式高端全景面罩模具，其特征在于，所述定位孔分布在母模具的四個角上，工作臺凹面于母模具中央，插頭分布在母模具兩側，定位鈕槽位于工作臺凹面內。