[發明專利]一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置在審
| 申請號: | 202110414787.6 | 申請日: | 2021-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN113294091A | 公開(公告)日: | 2021-08-24 |
| 發明(設計)人: | 林蘭蘭 | 申請(專利權)人: | 林蘭蘭 |
| 主分類號: | E21B7/00 | 分類號: | E21B7/00;E21B7/28;E21B10/43;E21B12/00;E21B27/00;E21B41/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 電磁 激勵 扭振低 噪聲 鉆孔 裝置 | ||
本發明公開了一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置,包括鉆孔殼,其特征在于:所述鉆孔殼的內部設置降噪機構,所述鉆孔殼的底部設置有鉆孔機構,所述鉆孔機構與降噪機構為管道連接,所述鉆孔殼的上方設置有填充機構,所述填充機構與降噪機構為管道連接,所述鉆孔機構包括有鉆頭,所述鉆頭的表面活動連接有螺旋刀片,所述螺旋刀片的內部設置有攪刀,所述鉆頭的內部設置有膨脹囊,所述膨脹囊與攪刀固定,所述鉆頭的上方設置有存氣球,所述存氣球與膨脹囊為管道連接,所述螺旋刀片之間設置有間隙槽,所述鉆孔殼的周圍滑動連接有限位柱,所述降噪機構包括有凸輪,本發明,具有實用性強和填補井壁凹坑增加水井的使用壽命的特點。
技術領域
本發明涉及鉆井鉆孔技術領域,具體為一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置。
背景技術
現有的鉆井鉆孔裝置不能在鉆井時將鉆下的泥土收集起來,容易對環境造成污染,而現有的鉆井鉆孔裝置不能對井壁凹坑進行填補且不能起到降噪效果,因此,設計實用性強和填補井壁凹坑增加水井的使用壽命的一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置是很有必要的。
發明內容
本發明的目的在于提供一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為了解決上述技術問題,本發明提供如下技術方案:一種用于電磁激勵扭振低噪聲鉆孔裝置,包括鉆孔殼,其特征在于:所述鉆孔殼的內部設置降噪機構,所述鉆孔殼的底部設置有鉆孔機構,所述鉆孔機構與降噪機構為管道連接,所述鉆孔殼的上方設置有填充機構,所述填充機構與降噪機構為管道連接。
根據上述技術方案,所述鉆孔機構包括有鉆頭,所述鉆頭的表面活動連接有螺旋刀片,所述螺旋刀片的內部設置有攪刀,所述鉆頭的內部設置有膨脹囊,所述膨脹囊與攪刀固定,所述鉆頭的上方設置有存氣球,所述存氣球與膨脹囊為管道連接,所述螺旋刀片之間設置有間隙槽。
根據上述技術方案,所述鉆孔殼的周圍滑動連接有限位柱,所述降噪機構包括有凸輪,所述凸輪的底部固定有推桿,所述推桿與存氣球固定,所述存氣球的一側設置有滾軸,所述滾軸的表面設置有傳動球,所述傳動球的表面設置有頂球,所述傳動球的內部設置有水囊,所述限位柱與凸輪為配合結構,所述水囊與滾軸相配合。
根據上述技術方案,所述鉆孔殼的兩側固定有攪拌殼,所述攪拌殼的內部設置有旋轉軸,所述旋轉軸的表面固定有攪拌葉片,所述攪拌殼的上方設置有集石腔,所述集石腔的底部開設有進石孔,所述集石腔與限位柱相配合,所述旋轉軸的頂端設置有氣囊,所述氣囊與攪拌殼的內部管道連接,所述集石腔的下方軸承連接有旋轉塊,所述旋轉塊與氣囊相配合。
根據上述技術方案,所述攪拌殼的內壁設置有導熱管,所述攪拌葉片的內壁設置有膨脹球,所述導熱管與膨脹球為管道連接,所述攪拌殼的內壁的頂部設置有斜薄膜,所述斜薄膜的一端固定有儲水球,所述儲水球與水囊為管道連接,所述儲水球的表面開設有噴水孔。
根據上述技術方案,所述填充機構包括有減震殼,所述減震殼的中間設置有連接軸,所述連接軸與凸輪固定,所述連接軸的周圍設置有三組氮氣腔,所述氮氣腔與存氣球為管道連接,三組所述氮氣腔之間形成有滑動腔,所述滑動腔的內部滑動設置有配重球,所述減震殼與氮氣腔之間設置有存水室,所述配重球朝向存水室的一側開設有小孔,所述存水室的表面開設有出口,所述出口的內部設置有擋板,所述出口與小孔為配合結構,所述存水室與水囊為管道連接。
根據上述技術方案,所述減震殼的兩側固定有填補殼,所述填補殼的內部設置有儲泥腔,所述儲泥腔與集石腔為管道連接,所述儲泥腔的內部設置有儲水腔,所述儲水腔的中間兩側設置有柔性膜,所述儲水腔的兩端內部彈簧連接有擋球,所述儲水腔的兩端開設有出水孔,所述擋球與出水口為配合結構。
根據上述技術方案,所述儲泥腔的表面設置有填補塊,所述填補殼的表面開設有填補孔,所述填補塊的一端位于填補殼的外側,所述填補塊與填補孔相配合。
根據上述技術方案,所述攪拌葉片具有彈性。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于林蘭蘭,未經林蘭蘭許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110414787.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





