[發明專利]微納結構制作方法及微納結構制作裝置

在審

• 申請號: 202110414515.6
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113189840A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 陳佛奎;林慧;馬翠;賴厚湖;余明;朱揮
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張全文

1.一種微納結構制作方法，其特征在于，包括：

在透光坯料的一側表面粘附有一層液態并為透光材料且不會在重力作用下流離所述透光坯料的功能擴展料；

將印章結構壓印所述功能擴展料，并使所述功能擴展料呈現出的形狀為微納結構；

使所述功能擴展料固化，并附著于所述透光坯料，其中，所述透光坯料與呈微納結構狀的所述功能擴展料共同構成透光件；

使所述印章結構與所述功能擴展料分離。

2.如權利要求1所述的微納結構制作方法，其特征在于，所述功能擴展料為紫外固化材料；

通過紫外線使所述功能擴展料固化。

3.如權利要求1所述的微納結構制作方法，其特征在于，在所述功能擴展料固化之前，使所述印章結構壓印所述功能擴展料的作用力維持恒定。

4.如權利要求1所述的微納結構制作方法，其特征在于，所述透光件為窗口件；

所述微納結構為亞波長結構。

5.一種微納結構制作裝置，其特征在于，包括印章結構，所述印章結構能夠在壓印于一液態且在自身重力作用下不會流離所粘附的物件的物料時，使所述物料呈現出的形狀為微納結構。

6.如權利要求5所述的微納結構制作裝置，其特征在于，所述印章結構為由透光材料制成的印章結構。

7.如權利要求6所述的微納結構制作裝置，其特征在于，所述印章結構由柔性材料制成，且呈薄膜狀。

8.如權利要求1所述的微納結構制作裝置，其特征在于，所述微納結構制作裝置還包括：

壓印驅動結構，用于驅動所述印章結構壓印至所述功能擴展料。

9.如權利要求8所述的微納結構制作裝置，其特征在于，所述微納結構制作裝置還包括：

恒力控制組件，包括壓力傳感器以及與所述壓印結構連接的檢測施力件；

所述檢測施力件在所述印章結構壓印至所述功能擴展料時抵壓所述壓力傳感器；

所述驅動結構在所述壓力傳感器檢測到所述恒力檢測施力件的壓力達到預設值時維持對所述功能擴展料的壓印力。

10.如權利要求5所述的微納結構制作裝置，其特征在于，所述透光件為窗口件；

所述微納結構為亞波長結構。