[發明專利]一種校正機械偏差的方法和系統

有效

• 申請號: 202110414441.6
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113100802B
• 公開（公告）日: 2023-07-28
• 發明（設計）人: 劉炎炎
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技股份有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03;A61B6/00;A61B5/00;G06N3/0464
• 代理公司: 成都七星天知識產權代理有限公司 51253
• 代理人: 袁春曉

1.一種校正機械偏差的方法，其特征在于，包括：

獲取參考對象的第一投影數據，所述第一投影數據是基于待校正設備得到的投影數據，所述待校正設備包括機械偏差，所述第一投影數據包括對應所述機械偏差的偏差投影數據；

獲取所述參考對象的第二投影數據，所述第二投影數據不包括所述偏差投影數據；

以所述第一投影數據和所述第二投影數據作為訓練樣本，對初始輔助模型進行訓練得到輔助模型，所述輔助模型包括至少一個卷積層，所述至少一個卷積層中的每一個卷積層包括至少一個候選卷積核；

基于所述輔助模型的所述至少一個候選卷積核確定目標卷積核；

基于所述目標卷積核確定所述待校正設備的機械偏差信息，所述機械偏差信息用于校正所述待校正設備的所述機械偏差或所述偏差投影數據，其中，所述待校正設備包括射線源和探測器，所述探測器包括排列成探測單元矩陣的多個探測單元，所述多個探測單元包括與所述機械偏差相關的目標探測單元；

所述基于所述目標卷積核確定所述待校正設備的所述機械偏差信息包括：

確定所述目標卷積核中心元素與所述目標卷積核至少一個方向上的元素的第一差異；

確定所述目標探測單元與所述探測單元矩陣的至少一個方向上的探測單元的投影位置的第二差異，所述目標卷積核的至少一個方向與所述探測單元矩陣的至少一個方向對應；

基于所述第一差異和所述第二差異，確定所述目標探測單元在所述至少一個方向上的距離偏差，所述機械偏差信息包括所述目標探測單元在所述至少一個方向上的所述距離偏差。

2.如權利要求1所述的方法，以所述第一投影數據和所述第二投影數據作為訓練樣本，對初始輔助模型進行訓練得到所述輔助模型包括：

根據所述第一投影數據、所述第二投影數據以及損失函數對所述初始輔助模型進行迭代更新，得到所述輔助模型；其中，所述損失函數包括根據中間卷積核的中心元素的值與預設值的差異確定的第一損失函數，所述中間卷積核根據所述初始輔助模型或更新模型的參數確定。

3.如權利要求1所述的方法，基于所述輔助模型的所述至少一個候選卷積核確定所述目標卷積核包括：

對所述至少一個候選卷積核執行卷積操作，得到所述目標卷積核。

4.如權利要求1所述的方法，基于所述輔助模型的所述至少一個候選卷積核確定所述目標卷積核包括：

確定輸入矩陣，所述輸入矩陣基于所述至少一個候選卷積核的大小確定；

將所述輸入矩陣輸入所述輔助模型，通過所述輸入矩陣，基于所述至少一個候選卷積核，從所述輔助模型中提取所述目標卷積核。

5.如權利要求4所述的方法，所述輸入矩陣的每一行中，只有一個元素為1，其它元素為0。

6.如權利要求1所述的方法，所述機械偏差包括所述目標探測單元的實際位置與理想位置的偏差，和/或所述射線源的實際位置與理想位置的偏差。

7.如權利要求1所述的方法，所述第二投影數據是基于標準設備得到的投影數據，所述標準設備的所述機械偏差已被校正或者所述標準設備不包括所述機械偏差。