[發明專利]刻蝕減薄系統

有效

• 申請號: 202110414307.6
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113213769B
• 公開（公告）日: 2023-09-15
• 發明（設計）人: 李青;李赫然;段亞偉;胡恒廣;王麗紅;周波;李瑞佼;王世嵐;郝藝;王肖義
• 申請（專利權）人: 河北光興半導體技術有限公司;東旭光電科技股份有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 林婧

1.一種刻蝕減薄系統，其特征在于，包括刻蝕裝置（10）和管路輸送組件，所述刻蝕裝置（10）包括具有容納腔（12）的殼體（11），所述容納腔（12）內設置有用于直立固定玻璃的固定結構（13），所述殼體（11）設置有用于持續向所述容納腔（12）供送刻蝕液的刻蝕液進口（14），所述殼體（11）的頂部設置有刻蝕液出口（15）；

所述刻蝕液進口（14）設置在所述容納腔（12）的底部，并且所述刻蝕液進口（14）的數量為多個，所述刻蝕液進口（14）的數量多于所述刻蝕液出口（15）的數量，并且，所述刻蝕液進口（14）與所述刻蝕液出口（15）非同軸布置；

所述管路輸送組件包括輸入管路（22）、輸出管路（23）、第一流量調節閥門（24）和第二流量調節閥門（25），全部的所述刻蝕液進口（14）與所述輸入管路（22）連通，全部的所述刻蝕液出口（15）與所述輸出管路（23）連通，所述第一流量調節閥門（24）設置在所述輸入管路（22）上，所述第二流量調節閥門（25）設置在所述輸出管路（23）上。

2.根據權利要求1所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述固定結構（13）為卡槽（16），所述殼體（11）包括相對設置的側壁以及相對設置的底壁和頂壁，所述頂壁上開設有所述刻蝕液出口（15），所述底壁的內側和所述側壁的內側上均開設有用于固定所述玻璃的所述卡槽（16）。

3.根據權利要求2所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述卡槽（16）構造成U型結構，所述頂壁上開設有插入口（17），所述插入口（17）設置于所述U型結構的開口處，所述刻蝕裝置（10）還包括彈性密封件（18），所述彈性密封件（18）可開合地設置于所述插入口（17）處，以密封所述插入口（17）。

4.根據權利要求2所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述刻蝕液進口（14）分別位于所述卡槽（16）的兩側。

5.根據權利要求4所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述刻蝕液出口（15）開設于所述頂壁，并且，所述刻蝕液的出口的數量為多個且分別設置于所述卡槽（16）的兩側。

6.根據權利要求1所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述刻蝕減薄系統（100）還包括過濾裝置（26），所述過濾裝置（26）的進口與所述刻蝕液出口（15）連通，所述過濾裝置（26）的出口與所述刻蝕液進口（14）連通。

7.根據權利要求6所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述管路輸送組件還包括第一泵（21）和第二泵（27），所述第二泵（27）、所述過濾裝置（26）、所述第一泵（21）依次連通，所述第一泵（21）的出口與所述刻蝕液進口（14）連通，所述第二泵（27）的進口與所述刻蝕液出口（15）連通。

8.根據權利要求1所述的刻蝕減薄系統，其特征在于，所述刻蝕減薄系統（100）還包括能夠保持恒溫的恒溫裝置（30），所述恒溫裝置（30）包括容器（31），所述刻蝕裝置（10）設置于所述容器（31）內。