[發明專利]圖像重建方法、裝置和電子設備

有效

• 申請號: 202110412240.2
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113112561B
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發明（設計）人: 張笛兒
• 申請（專利權）人: 賽諾威盛科技(北京)股份有限公司
• 主分類號: G06T11/00
• 分類號: G06T11/00
• 代理公司: 北京知果之信知識產權代理有限公司 11541
• 代理人: 卜榮麗;李志剛

1.一種圖像重建方法，其特征在于，包括：

獲取目標像素兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據；

基于所述兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據采用四點自適應重采樣算法計算目標像素投影數據，其中，所述四點自適應重采樣算法中的參數是通過投影數據在頻域通過特性確定的；

基于所述目標像素投影數據進行圖像重建；

所述四點自適應重采樣算法包括：

其中，x_i和x_i+1分別為目標像素前后兩側近鄰的投影數據，x_i-1和x_i+2分別為目標像素前后兩側次近鄰的投影數據，A、B、C、D為四點自適應重采樣算法的參數，所述參數通過所述投影數據在頻域通過特性滿足至少一限制條件確定；

所述四點自適應重采樣算法通過投影數據在頻域通過特性滿足如下至少一限制條件進行確定：

頻域通過特性曲線滿足預設低通特性；

不同位置的目標像素對應的頻域通過特性曲線聚合度大于預設值；

頻域通過特性曲線的增益值在任意頻率的投影數據大于預設增益。

2.如權利要求1所述的圖像重建方法，其特征在于，所述投影數據在頻域通過特性基于所述四點自適應重采樣算法的重采樣格式對應的頻域通過特征函數進行計算得到。

3.如權利要求1-2任一項所述的圖像重建方法，其特征在于，所述四點自適應重采樣算法包括：

其中，α是對應線性插值的與像素位置有關的插值系數，x_i和x_i+1分別為目標像素前后兩側近鄰的投影數據，x_i-1和x_i+2分別為目標像素前后兩側次近鄰的投影數據，y為目標像素投影數據。

4.如權利要求1所述圖像重建方法，其特征在于，所述四點自適應重采樣算法包括：

其中,α是對應線性插值的與像素位置有關的插值系數，x_i+j為與目標像素相鄰的第i+j個投影數據，K是核函數。

5.如權利要求1所述圖像重建方法，其特征在于，所述基于所述兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據采用四點自適應重采樣算法計算目標像素投影數據包括：

獲取掃描設備的所有view角；

分別在每一view角下基于所述兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據采用四點自適應重采樣算法計算目標像素子投影數據；

對所述目標像素子投影數據進行累加得到所述目標像素投影數據。

6.一種圖像重建裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取目標像素兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據；

計算模塊，用于基于所述兩側近鄰投影數據和兩側次近鄰投影數據采用四點自適應重采樣算法計算目標像素投影數據，其中，所述四點自適應重采樣算法中的參數是通過投影數據在頻域通過特性確定的；

重建模塊，用于基于所述目標像素投影數據進行圖像重建；

所述四點自適應重采樣算法包括：

其中，x_i和x_i+1分別為目標像素前后兩側近鄰的投影數據，x_i-1和x_i+2分別為目標像素前后兩側次近鄰的投影數據，A、B、C、D為四點自適應重采樣算法的參數，所述參數通過所述投影數據在頻域通過特性滿足至少一限制條件確定；

所述四點自適應重采樣算法通過投影數據在頻域通過特性滿足如下至少一限制條件進行確定：

頻域通過特性曲線滿足預設低通特性；

不同位置的目標像素對應的頻域通過特性曲線聚合度大于預設值；

頻域通過特性曲線的增益值在任意頻率的投影數據大于預設增益。