[發明專利]X射線診斷裝置以及醫用信息處理裝置

在審

• 申請號: 202110410324.2
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113520424A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 大橋俊平;山岸順一;佐藤直高;榊原淳;菅野雄介;和久敏哉
• 申請（專利權）人: 佳能醫療系統株式會社
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00;A61M5/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 牛玉婷

1.一種X射線診斷裝置，具備處理電路，該處理電路基于第一參照信息與第二參照信息，決定造影圖像收集中的造影劑濃度，該第一參照信息將在所述造影圖像中推薦的對比度與成為造影圖像的收集的對象的每個關注區域建立了對應，該第二參照信息對X射線的產生條件與造影劑濃度與對比度的關系進行表示，

所述處理電路基于所決定的所述造影劑濃度，計算對于所述被檢體注入造影劑的注射器的設定信息。

2.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路從所述第一參照信息取得在所述被檢體的關注區域中推薦的對比度，基于所取得的對比度與對于所述被檢體照射的X射線的產生條件，從所述第二參照信息取得造影劑濃度，從而決定所述造影圖像收集中的造影劑濃度。

3.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述第一參照信息還按照每個關注區域而具有代表性的血管直徑的信息，

所述第二參照信息按照每個血管直徑而具有對所述X射線的產生條件與所述造影劑濃度與所述對比度的關系進行表示的信息，

所述處理電路基于所述第一參照信息，決定所述被檢體的關注區域中的血管直徑，基于與所決定的血管直徑對應的第二參照信息，決定所述造影圖像收集中的造影劑濃度。

4.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述第一參照信息還按照每個關注區域而具有代表性的體厚的信息，

所述第二參照信息按照每個體厚而具有對所述X射線的產生條件與所述造影劑濃度與所述對比度的關系進行表示的信息，

所述處理電路基于所述第一參照信息，決定所述被檢體的關注區域中的體厚，基于與所決定的體厚對應的第二參照信息，決定所述造影圖像收集中的造影劑濃度。

5.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述第二參照信息按照每個血管直徑而具有對所述X射線的產生條件與所述造影劑濃度與所述對比度的關系進行表示的信息，

所述處理電路根據所述被檢體的關注區域中的過去圖像，決定所述被檢體的關注區域中的血管直徑，基于與所決定的血管直徑對應的第二參照信息，決定所述造影圖像收集中的造影劑濃度。

6.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述第二參照信息按照每個體厚而具有對所述X射線的產生條件與所述造影劑濃度與所述對比度的關系進行表示的信息，

所述處理電路根據所述被檢體的關注區域中的過去圖像，決定所述被檢體的關注區域中的體厚，基于與所決定的體厚對應的第二參照信息，決定所述造影圖像收集中的造影劑濃度。

7.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述設定信息是造影劑對于所述被檢體的注入速度以及所述造影劑的稀釋率中的至少一個。

8.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路基于所述被檢體的拍攝協議來決定該被檢體中的關注區域。

9.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路基于拍攝時的視場尺寸來決定該被檢體中的關注區域。

10.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路基于所述被檢體的關注區域中的過去的造影圖像的對比度與該造影圖像的收集時的注射器的設定信息，校正所述設定信息。

11.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路基于所述被檢體的關注區域中的過去的造影三維圖像所含的偽影，校正所述設定信息。

12.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路使所述設定信息顯示于顯示部。

13.根據權利要求1所述的X射線診斷裝置，

所述處理電路將計算出的所述設定信息向所述注射器發送。