[發(fā)明專利]用于單晶PERC制絨的工藝

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110405344.0
• 申請(qǐng)日: 2021-04-15
• 公開（公告）號(hào): CN113130300A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張龍飛;彭彪;顧峰;胡勁松;談鵬遠(yuǎn);呂武
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通威太陽能（安徽）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;H01L31/18;C30B33/10;C30B29/06
• 代理公司: 昆明合眾智信知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 53113
• 代理人: 孫悅

1.一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于，包括以下步驟：

前清洗：將單晶制絨清洗機(jī)的入料傳送帶上放入待制絨及清洗的單晶硅電池板，通過傳送帶輸送至前清洗槽，在前清洗槽內(nèi)對(duì)單晶硅電池板進(jìn)行初步清洗，前清洗槽內(nèi)添加物質(zhì)為熱水、超純水、NAOH和H₂O₂；

一次水洗：將完成前清洗工序的單晶硅電池板進(jìn)行熱水清洗；

制絨：清洗完成的單晶硅電池板送入制絨槽內(nèi)進(jìn)行制絨，制絨槽內(nèi)添加物質(zhì)為超純水、NAOH和制絨添加劑；

二次水洗：將經(jīng)制絨槽送出的單晶硅電池板進(jìn)行熱水浸泡清洗；

堿洗：將經(jīng)熱水浸泡的單晶硅電池板送入堿洗槽內(nèi)進(jìn)行堿洗，堿洗槽內(nèi)添加物質(zhì)為熱水、超純水、NAOH和H₂O₂；

三次水洗：將經(jīng)堿洗送出的單晶硅電池板進(jìn)行熱水浸泡清洗；

酸洗：對(duì)經(jīng)過三次水洗工序的單晶硅電池板進(jìn)行堿洗浸泡，堿洗槽內(nèi)的添加物質(zhì)為超純水、HF和HCL；

慢提拉：將酸洗過后的單晶硅電池板在充滿熱水的慢提拉槽內(nèi)浸泡并通過慢提拉支架緩慢提拉脫水；

烘干燥：將提拉出水的單晶硅電池板送入烘干室內(nèi)進(jìn)行烘干燥處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述制絨工序中的制絨槽數(shù)量不少于2個(gè)，所述制絨槽內(nèi)初步組分配比為：超純水：NAOH：制絨添加劑＝6500-7000:8-10：4-6，所述制絨槽內(nèi)自補(bǔ)組分配比為：超純水：NAOH：制絨添加劑＝180-200:8-10：2-5。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述前清洗槽內(nèi)初步組分配比為：熱水：超純水：NAOH:H₂O₂＝50-70:15-25:1:30-40，所述前清洗槽內(nèi)自補(bǔ)組分配比為：熱水：超純水：NAOH:H₂O₂＝15-25:40-50:1-1.5:6-10。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述堿洗槽中初步組分配比為：熱水、超純水、NAOH和H₂O₂＝450-500:180-200:4-6:28-30，所述堿洗槽中自補(bǔ)組分配比為：超純水、NAOH和H₂O₂＝20-25:1:12-15。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述酸洗槽中初步組分配比為：超純水：HF：HCL＝60-65:2-4:4-6,所述酸洗槽中自補(bǔ)組分配比為：超純水：HF：HCL＝10-15:1-3:2-4。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述前清洗槽中熱水、超純水、NAOH和H₂O₂的初配量分別為240000ml、80000ml、4000ml和14000ml，所述前清洗槽中熱水、超純水、NAOH和H₂O₂的自補(bǔ)量分別為2000ml、4500ml、100ml和800ml。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述堿洗槽中熱水、超純水、NAOH和H₂O₂的初配量分別為240000ml、100000ml、2500ml和14000ml，所述堿洗槽中超純水、NAOH和H₂O₂的自補(bǔ)量分別為1200ml、50ml和600ml。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述酸洗槽中超純水、HF和HCL的初配量分別為250000ml、12000ml、20000ml，所述酸洗槽中超純水、HF和HCL的自補(bǔ)量分別為1200ml、200ml和300ml。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于單晶PERC制絨的工藝，其特征在于：所述制絨槽中超純水、NAOH和制絨添加劑的初配量分別為340000ml、4500ml和2000ml，所述制絨槽中超純水、NAOH和制絨添加劑的自補(bǔ)量分別為9500ml、450ml和150ml。