[發(fā)明專利]精細(xì)金屬掩模版及掩模裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110405284.2
• 申請日: 2021-04-15
• 公開（公告）號: CN113088879B
• 公開（公告）日: 2023-01-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳建鵬;梅菊;李劍波;丁文彪
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
• 代理公司: 北京市立方律師事務(wù)所 11330
• 代理人: 張筱寧;宋海斌

本申請實施例提供了一種精細(xì)金屬掩模板及掩模裝置。在本申請實施例提供的精細(xì)金屬掩模板中，包括圖案區(qū)域和位于圖案區(qū)域外圍的輔助區(qū)，圖案區(qū)域包括在平行于精細(xì)金屬掩模版的第一方向上交替排列的第一子圖案區(qū)域和第二子圖案區(qū)域，由于第一子圖案區(qū)域的兩側(cè)均設(shè)置有第一凹形區(qū)，第一凹形區(qū)將圖案區(qū)域的至少部分分隔形成若干相互分離的子部分，通過第一凹形區(qū)釋放精細(xì)金屬掩模板的應(yīng)力，能夠有效降低精細(xì)金屬掩模板中積聚的應(yīng)力，從而能夠降低精細(xì)金屬掩模版中出現(xiàn)的褶皺的幅值程度，進而能夠保障精細(xì)金屬掩模版的平坦度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，本申請涉及一種精細(xì)金屬掩模版及掩模裝置。

背景技術(shù)

目前，在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)顯示面板的蒸鍍制備工藝過程中，通常會使用FMM(Fine Metal Mask，精細(xì)金屬掩模版)，加熱蒸發(fā)的有機發(fā)光材料穿過高精度金屬掩模版的開口，并沉積到背板的相應(yīng)位置處，從而獲得所需分辨率的顯示面板。因此，精細(xì)金屬掩模版會影響顯示面板的分辨率。

現(xiàn)有精細(xì)金屬掩模版在使用時首先需要張網(wǎng)，由于制作工藝的影響，現(xiàn)有制作完成的精細(xì)金屬掩模版往往會出現(xiàn)褶皺現(xiàn)象，張網(wǎng)過程中往往會進一步加劇精細(xì)金屬掩模版的褶皺現(xiàn)象，導(dǎo)致褶皺的幅值過大，導(dǎo)致精細(xì)金屬掩模版的平坦度降低，從而對后續(xù)有機發(fā)光材料的蒸鍍制備工藝產(chǎn)生影響，導(dǎo)致顯示面板的生產(chǎn)良率降低。

發(fā)明內(nèi)容

本申請針對現(xiàn)有方式的缺點，提出一種精細(xì)金屬掩模版及掩模裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在精細(xì)金屬掩模版中褶皺的幅值過大的技術(shù)問題。

第一個方面，本申請實施例提供了一種精細(xì)金屬掩模版，包括：圖案區(qū)域和位于圖案區(qū)域外圍的輔助區(qū)；

圖案區(qū)域包括至少兩個第一子圖案區(qū)域和至少兩個第二子圖案區(qū)域，第一子圖案區(qū)域和第二子圖案區(qū)域在平行于精細(xì)金屬掩模版的第一方向上交替排列；在平行于精細(xì)金屬掩模版的第二方向上，第一子圖案區(qū)域的兩側(cè)均設(shè)置有第一凹形區(qū)，第二方向垂直于第一方向；精細(xì)金屬掩模版沿第一方向的尺寸大于沿第二方向的尺寸。

第二個方面，本申請實施例提供了一種掩模裝置，包括：精細(xì)金屬掩模版框架、精細(xì)金屬掩模版支撐架和至少一個如上述第一個方面所提供的精細(xì)金屬掩模版；

精細(xì)金屬掩模版支撐架設(shè)置有鏤空區(qū)域，鏤空區(qū)域與精細(xì)金屬掩模版中第二子圖案區(qū)域的第一圖形區(qū)相匹配。

本申請實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益技術(shù)效果包括：

在本申請實施例提供的精細(xì)金屬掩模板中，包括圖案區(qū)域和位于圖案區(qū)域外圍的輔助區(qū)，圖案區(qū)域包括在平行于精細(xì)金屬掩模版的第一方向上交替排列的第一子圖案區(qū)域和第二子圖案區(qū)域，由于第一子圖案區(qū)域的兩側(cè)均設(shè)置有第一凹形區(qū)，第一凹形區(qū)將圖案區(qū)域的至少部分分隔形成若干相互分離的子部分，通過第一凹形區(qū)釋放精細(xì)金屬掩模板的應(yīng)力，能夠有效降低精細(xì)金屬掩模板中積聚的應(yīng)力，從而能夠降低精細(xì)金屬掩模版中出現(xiàn)的褶皺的幅值程度，進而能夠保障精細(xì)金屬掩模版的平坦度。

本申請附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。

附圖說明

本申請上述的和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結(jié)合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1為本申請實施例提供的一種精細(xì)金屬掩模版的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本申請實施例提供的圖1中所示精細(xì)金屬掩模版的A處放大示意圖；

圖3為本申請實施例提供的另一種精細(xì)金屬掩模版的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本申請實施例提供的又一種精細(xì)金屬掩模版的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本申請實施例提供的圖4中所示精細(xì)金屬掩模版的B處放大示意圖；