[發明專利]曝光設備和制造顯示裝置的方法

在審

• 申請號: 202110405189.2
• 申請日: 2021-04-15
• 公開（公告）號: CN113534613A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 任星淳;金鐘奎;樸庭玄;宋升勇;李德重;李從元
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司;浦項工科大學校產學協力團
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京鉦霖知識產權代理有限公司 11722
• 代理人: 李英艷;馮志云

本公開提供一種曝光設備和制造顯示裝置的方法，所述曝光設備包括：光源單元，所述光源單元提供用于曝光的光并且包括以矩陣形式布置的微發光二極管；基底傳送單元，所述基底傳送單元傳送目標基底；以及控制單元，所述控制單元控制所述光源單元和所述基底傳送單元中的至少一個。所述控制單元將坐標或者地址分配給每個微發光二極管，并且基于所述坐標或者所述地址根據預設圖案單獨控制每個微發光二極管的光量。

本申請要求于2020年4月16日在韓國知識產權局提交的第10-2020-0045791號韓國專利申請的權益，該韓國專利申請的公開內容通過引用全部合并在本文中。

技術領域

本公開涉及一種曝光設備和使用曝光設備制造顯示裝置的方法。

背景技術

光刻裝置是類似照片打印技術的使用光形成復雜電路圖案的裝置。光刻裝置可以在用于制造例如半導體裝置，諸如液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示面板(PDP)和電致發光顯示器(ELD)的顯示面板，集成電路和平板顯示器的圖案形成中被使用。

在常規光刻中，通過經由光掩模將光致抗蝕劑曝光，在涂覆有光致抗蝕劑的基底上形成期望圖案，在光掩模中在石英或玻璃板上由例如主要為鉻的金屬薄膜形成圖案。

在上述工藝中，可以使用由單獨可操作元件的陣列組成的圖案化裝置來代替光掩模。圖案化裝置被編程以使用單獨可操作元件的陣列形成期望圖案的光束。由于通過程序照射的光束可以修改為期望圖案，因此這種“無掩模”系統可以無附加成本地形成各種形狀的圖案。另外，無掩模系統比常規的基于掩模的系統更快和更便宜。

代表性的可編程圖案化裝置是使用數字鏡裝置(DMD)的曝光設備。DMD是在諸如投影儀和電視機的電子產品中被作為用于生成圖像的元件的裝置，并且在無掩模光刻系統中是用于生成圖案的關鍵組件。在DMD中，鏡根據電信號旋轉以形成期望圖案的圖像。也就是說，DMD類似能夠進行圖案修改的光掩模。使用DMD的曝光設備允許在其設計改變時易于使用先前的數據，可以立即糾正設計誤差，并且可以減少設計時間。另一方面，DMD需要用于圖案化圖像投影的復雜光學系統，并且由于光通過DMD照射而遭受光損失。

發明內容

本公開的各方面提供一種可以形成各種圖案而無需更換光源或掩模的曝光設備以及使用該曝光設備制造顯示裝置的方法。

本公開的各方面還提供一種具有低光損失的曝光設備以及使用該曝光設備制造顯示裝置的方法。

本公開的各方面還提供一種可以節省安裝空間的曝光設備以及使用該曝光設備制造顯示裝置的方法。

然而，本公開的各方面不限于在本文中闡述的那些方面。通過參照下面給出的本公開的詳細描述，本公開的上述和其它方面對于本公開所屬領域的普通技術人員將變得更加明顯。

根據本公開的一方面，提供一種曝光設備，所述曝光設備包括：光源單元，所述光源單元提供用于曝光的光并且包括以矩陣形式布置的微發光二極管；基底傳送單元，所述基底傳送單元傳送目標基底；以及控制單元，所述控制單元控制所述光源單元和所述基底傳送單元中的至少一個。所述控制單元將坐標或者地址分配給每個微發光二極管，并且基于所述坐標或者所述地址根據預設圖案單獨控制每個微發光二極管的光量。

根據本公開的另一方面，提供一種曝光設備，所述曝光設備包括：光源單元，所述光源單元提供用于曝光的光并且包括以矩陣形式布置的單元發光單位；基底傳送單元，所述基底傳送單元傳送目標基底；以及控制單元，所述控制單元控制所述光源單元和所述基底傳送單元中的至少一個。所述控制單元將坐標或者地址分配給每個單元發光單位，并且基于所述坐標或者所述地址根據預設圖案單獨控制每個單元發光單位的光量。

根據本公開的另一方面，提供一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括：在基體基底上堆疊至少一個材料層；在所述至少一個材料層上涂覆光敏材料；通過單獨控制每個微發光二極管的光量輸出預設圖案；將所述光敏材料曝光；去除所述光敏材料的部分；以及在所述至少一個材料層中蝕刻第一圖案。