[發(fā)明專利]顯示基板及其制備方法和顯示裝置

在審

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• 申請日: 2021-04-14
• 公開（公告）號: CN113097421A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發(fā)明（設計）人: 卿萬梅;曾誠;樸春鍵;孔超;金廣;丁文彪
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張琛

1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：

襯底基板；

設置于所述襯底基板一側(cè)的發(fā)光層；

設置于所述發(fā)光層遠離所述襯底基板的一側(cè)且覆蓋所述發(fā)光層的封裝層；

其中，所述封裝層包括第一無機層、第二無機層以及設置于所述第一無機層和所述第二無機層之間的有機層；

所述有機層包括還原性螯合劑。

2.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述有機層中包含的所述還原性螯合劑與所述有機層材料的質(zhì)量比的比例范圍是0.01％至0.1％。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的顯示基板，其特征在于，所述還原性螯合劑包括金屬或金屬離子。

4.根據(jù)權利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述金屬包括Cu；

所述金屬離子包括Cu⁺、Fe²⁺中的至少一種。

5.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述有機層還包括甲基丙烯酸甲酯。

6.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述有機層的厚度為0.5至1.5微米。

7.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一無機層包括SiNO_x；所述第二無機層包括SiN_x。

8.一種顯示裝置，包括根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的顯示基板。

9.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

在襯底基板上形成發(fā)光層；

在所述發(fā)光層遠離所述襯底基板的一側(cè)形成覆蓋所述發(fā)光層的封裝層；

形成所述封裝層包括：

形成第一無機層；

在所述第一無機層的遠離所述襯底基板的一側(cè)形成有機層；

在所述有機層的一側(cè)遠離所述襯底基板的一側(cè)形成第二無機層；

其中，所述有機層包括還原性螯合劑。

10.根據(jù)權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述第一無機層和所述第二無機層通過化學氣相沉積工藝形成；

所述有機層通過噴墨打印工藝形成。

11.根據(jù)權利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述有機層在通過化學氣相沉積工藝形成所述第二無機層發(fā)生裂解，所述有機層裂解形成氧化物；

所述還原性螯合劑用于吸附或消耗所述氧化物。

12.根據(jù)權利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述還原性螯合劑與所述有機層材料通過物理混合形成流體，并通過噴墨打印工藝形成所述有機層。