[發(fā)明專利]聚酰亞胺基膜及包括該聚酰亞胺基膜的窗覆蓋膜

在審

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• 申請日: 2021-04-14
• 公開（公告）號: CN113527880A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安鐘南;金惠真
• 申請（專利權(quán)）人: SK新技術(shù)株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08J5/18;C08J7/04;C08J7/044;C08J7/046
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 劉成春;崔龍鉉

1.一種聚酰亞胺基膜，所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D1004的撕裂強(qiáng)度為300N/mm以上，根據(jù)ASTM E313的黃色指數(shù)為3以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述撕裂強(qiáng)度為300-700N/mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的機(jī)械方向的撕裂強(qiáng)度T_MD和寬度方向的撕裂強(qiáng)度T_TD滿足以下式1，

[式1]

0.95≤T_MD/T_TD≤1.05。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述黃色指數(shù)為2-3。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D1746在388nm下測量的透光率為5％以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為87％以上，霧度為2.0％以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D1746在388nm下測量的透光率為8％以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為89％以上，霧度為1.0％以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的根據(jù)ASTM D882的模量為3GPa以上，斷裂伸長率為8％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，利用Axometrics公司的Axoscan在550nm下測量的所述聚酰亞胺基膜的面內(nèi)相位差為400nm以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜包含聚酰胺酰亞胺結(jié)構(gòu)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜包含衍生自芳香族二胺的單元、衍生自芳香族二酐的單元、衍生自脂環(huán)族二酐的單元和衍生自芳香族二酰氯的單元，

在所述衍生自芳香族二酐的單元、衍生自脂環(huán)族二酐的單元和衍生自芳香族二酰氯的單元的總摩爾中包含60摩爾％以上的所述衍生自芳香族二酰氯的單元。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述衍生自芳香族二酰氯的單元的含量為70-90摩爾％。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺基膜，其中，所述聚酰亞胺基膜的厚度為10-500μm。

13.一種窗覆蓋膜，其包括：

權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺基膜；和

形成在所述聚酰亞胺基膜的至少一面上的涂層。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的窗覆蓋膜，其中，所述涂層是選自防靜電層、防指紋層、防污層、防刮擦層、低折射層、防反射層和沖擊吸收層中的任一種以上。

15.一種柔性顯示面板，其包括權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺基膜。